真空处理设备、真空处理方法和电子装置制造方法

摘要

一种真空处理设备包括：可抽空的真空室；设置在真空室中的衬底保持器，其具有竖直地面朝下的衬底卡紧面，并包括通过静电卡紧衬底的静电卡紧机构；衬底支撑构件，其设置在真空室中以保持衬底与衬底卡紧面平行并且将衬底支撑在允许衬底卡紧面卡紧衬底的方位中；和运动机构，其使衬底保持器和由衬底支撑构件所支撑的衬底中的至少一个运动，以使衬底和衬底保持器彼此接触，由此使衬底保持器卡紧衬底。

主权项

一种真空处理设备，包括：能抽空的真空室；衬底保持器，所述衬底保持器设置在所述真空室中，具有竖直地面朝下的衬底卡紧面，并且包括通过静电卡紧衬底的静电卡紧机构；衬底支撑构件，所述衬底支撑构件设置在所述真空室中以将所述衬底支撑在允许所述衬底卡紧面卡紧所述衬底的方位中；和运动装置，所述运动装置使所述衬底保持器和由所述衬底支撑构件所支撑的衬底中的至少一个运动，以便使所述衬底和所述衬底保持器彼此接触，由此使所述衬底保持器卡紧所述衬底。