| 发明名称 | 研磨头装置 | ||
| 摘要 | 一种研磨头装置，包括：功能台，所述功能台包括基座和吸附台，且所述吸附台位于所述基座表面；设置于吸附台表面的过渡膜；导向圈，所述导向圈包括连接部和密封部，且所述连接部位于所述密封部表面；所述连接部环绕吸附台侧面和过渡膜侧面；所述密封部包覆过渡膜的边缘。本发明避免了抛光液残留掉落衬底表面，导致衬底表面形成刮痕或者在衬底表面造成污染现象。 | ||
| 申请公布号 | CN102039555A | 申请公布日期 | 2011.05.04 |
| 申请号 | CN200910197684.8 | 申请日期 | 2009.10.26 |
| 申请人 | 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 | 发明人 | 俞昌;杨春晓 |
| 分类号 | B24B37/04(2006.01)I;B24B29/02(2006.01)I;H01L21/02(2006.01)I | 主分类号 | B24B37/04(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人 | 李丽 |
| 主权项 | 一种研磨头装置，其特征在于，包括：功能台，所述功能台包括基座和吸附台，且所述吸附台位于所述基座表面；设置于吸附台表面的过渡膜；导向圈，所述导向圈包括连接部和密封部，且所述连接部位于所述密封部表面；所述连接部环绕吸附台侧面和过渡膜侧面；所述密封部包覆过渡膜的边缘。 | ||
| 地址 | 201203 上海市浦东新区张江路18号 | ||