蚀刻设备的反应槽装置

摘要

一种蚀刻设备的反应槽装置，包含一个反应室、一个下电极及一个上电极。该反应室包括一个底壁，及一个自底壁往上突伸的环状的围壁，该下电极安装于反应室的底壁顶面，该上电极盖封反应室开口地往下叠置于该围壁顶面，并包括一个具有一个粗糙化底面的基板层，及一个由陶瓷粉末以电浆熔射方式熔射固结于该基板层的粗糙化底面的陶瓷熔射层。通过于基板层被覆该陶瓷熔射层的设计，除了可通过陶瓷熔射层的抗腐蚀性，大幅提高上电极的使用寿命外，还可通过该陶瓷熔射层的粗糙表面设计，提高上电极吸附蚀刻产生的微粒子的能力，提高玻璃蚀刻品质。

主权项

一种蚀刻设备的反应槽装置，包含一个开口朝上的反应室，及分别安装于该反应室的一个下电极与一个上电极，该反应室包括一个底壁，及一个自底壁往上突伸的环状的围壁，该下电极安装于反应室的底壁顶面，该上电极盖封反应室开口地往下叠置于该围壁顶面，其特征在于：该上电极包括一个具有一个粗糙化底面的基板层，及一个由陶瓷粉末以电浆熔射方式熔射固结于该基板层的粗糙化底面的陶瓷熔射层。