蒸发系统

摘要

本发明涉及一种蒸发系统(100)，该蒸发系统包括真空室(102)、用于容纳蒸发材料的坩埚(104)、用于容纳衬底(114)的衬底架(112)以及用于对要被淀积在所述衬底上的所述蒸发材料进行加热的电子束源(116)，其中所述电子束源与坩埚和衬底架一起被布置在真空室内，电子束源是场致发射电子束源，以及蒸发系统还包括用于控制由场致发射电子束源所发射的电子的方向的控制单元，从而使所发射的电子对蒸发材料进行加热以便蒸发材料蒸发。

主权项

一种蒸发系统，该蒸发系统包括：真空室；用于容纳蒸发材料的坩埚；用于容纳衬底的衬底架；以及用于对要被淀积在所述衬底上的所述蒸发材料进行加热的电子束源，其中所述电子束源与所述坩埚和所述衬底架一起被布置在所述真空室内，其特征在于，所述电子束源是场致发射电子束源，以及所述蒸发系统还包括控制单元，该控制单元用于控制由所述场致发射电子束源所发射的电子的方向，从而使所发射的电子对所述蒸发材料进行加热以使所述蒸发材料蒸发。