衬底支撑基座和应用该衬底支撑基座的化学气相沉积设备

摘要

本实用新型公开了一种衬底支撑基座，包含：被分隔形成若干加热区域和若干外部边缘加热区域的加热基座；被分别嵌设在加热区域和外部边缘加热区域中的若干加热源；与加热源耦合连接的电源控制器。该加热基座的上表面还具有一中间凹陷部和凸起外缘；且该加热基座上分布设置有若干个通气孔以传输热传导气体。本实用新型还公开了一种应用该衬底支撑基座的化学气相沉积设备。本实用新型适用于在大尺寸的衬底上沉积薄膜，在沉积薄膜的加热过程中，能对衬底进行均匀加热，使衬底保持良好的温度均匀性，提高所沉积薄膜的均匀性。

主权项

一种衬底支撑基座，所述衬底支撑基座用于放置待沉积薄膜的玻璃衬底，其特征在于，包含：一加热基座，具有中央加热区域（232）和外部边缘加热区域（231）；若干加热源，其被嵌设在所述中央加热区域（232）和所述外部边缘加热区域（231）中；电源控制器（236），其与所述加热源耦合连接；其中，所述的加热基座的上表面具有一中间凹陷部和凸起外缘（234）；且该加热基座上设置有若干个通气孔（238）以传输热传导气体。