| 发明名称 | 掩模版图形校正方法 | ||
| 摘要 | 一种掩模版图形校正方法，包括：获取每个图形各边界的掩模误差增益因子；根据各边界的所述掩模误差增益因子，将图形的各边界分为敏感边界和非敏感边界，其中，所述敏感边界具有大MEFF值，而所述非敏感边界具有小MEFF值；当所述掩模版图形校正未进入收敛状态时，先对所述敏感边界进行校正，然后再对所述非敏感边界进行校正，直至校正完成。本发明充分考虑了敏感边界与非敏感边界的差异性，分别对敏感边界和非敏感边界进行校正，从而有利于更加迅速地获得较为准确的校正结果，节省了大量人力和时间，提高了生产效率。 | ||
| 申请公布号 | CN102043326A | 申请公布日期 | 2011.05.04 |
| 申请号 | CN200910197452.2 | 申请日期 | 2009.10.20 |
| 申请人 | 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 | 发明人 | 杨青 |
| 分类号 | G03F1/14(2006.01)I | 主分类号 | G03F1/14(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人 | 李丽 |
| 主权项 | 一种掩模版图形校正方法，包括：获取每个图形各边界的掩模误差增益因子；根据各边界的所述掩模误差增益因子，将图形的各边界分为敏感边界和非敏感边界，其中，所述敏感边界具有大MEFF值，而所述非敏感边界具有小MEFF值；当所述掩模版图形校正未进入收敛状态时，先对所述敏感边界进行校正，然后再对所述非敏感边界进行校正，直至校正完成。 | ||
| 地址 | 201203 上海市浦东新区张江路18号 | ||