发明名称 |
具有浮动栅的非易失性存储器及其形成方法 |
摘要 |
本发明提供一种具有浮动栅的非易失性存储器及其形成方法,其中存储器包括复数个存储单元,其中,每一个存储单元包括:一衬底,在该衬底上的一源区、一漏区和两隔离区;一遂穿电介质层,形成于所述衬底表面;复数个浮动栅,形成于所述遂穿电介质层上;一栅间介质层,形成于所述浮动栅的表面;一控制栅,形成于所述的栅间介质层上;两侧墙,形成于所述控制栅的两侧;其中所述的复数个浮动栅为复数个纳米晶硅丘浮动栅。通过以上所述的技术方案,存储单元上具有高k遂穿电介质层;提供更低的电子势垒高度和更大的物理厚度;纳米晶硅丘浮动栅允许更薄的遂穿电介质层和更低的擦除电压;从而存储器可以在编程效率和数据保持性方面得到改善。 |
申请公布号 |
CN102044544A |
申请公布日期 |
2011.05.04 |
申请号 |
CN200910197085.6 |
申请日期 |
2009.10.13 |
申请人 |
中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 |
发明人 |
肖德元 |
分类号 |
H01L27/115(2006.01)I;H01L29/423(2006.01)I;H01L29/43(2006.01)I;H01L21/8247(2006.01)I;H01L21/28(2006.01)I |
主分类号 |
H01L27/115(2006.01)I |
代理机构 |
北京集佳知识产权代理有限公司 11227 |
代理人 |
李丽 |
主权项 |
具有浮动栅的非易失性存储器,其包括复数个存储单元,其中,每一个存储单元包括:一衬底,在该衬底上的一源区、一漏区和两隔离区;一遂穿电介质层,形成于所述衬底表面;复数个浮动栅,形成于所述遂穿电介质层上;一栅间介质层,形成于所述浮动栅的表面;一控制栅,形成于所述的栅间介质层上;两侧墙,形成于所述控制栅的两侧;其特征在于:所述的复数个浮动栅为复数个纳米晶硅丘浮动栅。 |
地址 |
201203 上海市浦东新区张江路18号 |