为基板处理调节边缘环电势的装置及方法

摘要

用于在等离子处理室内处理基板的方法。该基板设置在夹头上方且由边缘环环绕，而该边缘环与该夹头电性绝缘。该方法包括向该夹头提供RF能量，以及提供边缘环DC电压控制装置。该边缘环DC电压控制装置耦合至该边缘环，以向该边缘环提供第一电压，该边缘环电势为正电势、负电势以及接地之一。该方法进一步包括在该等离子处理室内产生等离子以处理该基板。该基板被处理，而该边缘环DC电压控制装置被配置为使得该边缘环电势在一个实施方式中小于该基板的DC电势，而在另一实施方式中大体上等于该基板的DC电势。

主权项

一种用于在等离子处理室中处理基板的方法，所述基板设置在夹头上方，且由边缘环环绕，所述边缘环与所述夹头电性绝缘，所述方法包括：向所述夹头提供RF能量；将边缘环DC电压控制装置耦合至所述边缘环，以向所述边缘环提供第一电压，结果使所述边缘环具有边缘环电势；在所述等离子处理室内产生等离子以处理所述基板；以及调节所述边缘环DC电压控制装置使得所述等离子具有非均匀的角向离子分布曲线以处理所述基板的边缘，其中所述调节使得所述边缘环电势高于所述基板的DC电势。