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一种制备ZSM-5之方法，包括下列步骤：混合一矽化物，一硷金属氧化物，一氧化铝及水，制备成一包含莫耳比例为0.07-0.14的硷金属氧化物/二氧化矽、15-42莫耳比例的水/二氧化矽、与20-100莫耳比例的二氧化矽/三氧化二铝之反应混合物；根据ZSM-5的结晶大小与颗粒分布，在180-210℃温度范围下维持该混合物的反应2-20小时，并得到一晶核反应混合物；以及于130-170℃温度范围下维持该晶核反应混合物10-200小时，以形成ZSM-5结晶体。如申请专利范围第1项所述之方法，其中该硷金属氧化物为硷金属氢氧化物。如申请专利范围第1项所述之方法，其中该硷金属为钠。如申请专利范围第1项所述之方法，其中当该二氧化矽/三氧化二铝莫耳比例为29或更高时，该硷金属氧化物/二氧化矽之比例为0.09-0.14。如申请专利范围第1项所述之方法，其中当该二氧化矽/三氧化二铝莫耳比例小于29时，该硷金属氧化物/二氧化矽之比例为0.07-0.1。如申请专利范围第1项所述之方法，其中该氧化铝为铝酸钠或氢氧化铝。如申请专利范围第1项所述之方法，其中该矽化物系选自由胶羽状矽胶，矽酸钠，及白烟所组成之群组。如申请专利范围第1项所述之方法，其中该ZSM-5平均结晶大小为1-6微米。如申请专利范围第8项所述之方法，其中该ZSM-5平均结晶大小为2-3微米。如申请专利范围第4项所述之方法，其中该ZSM-5为六面结晶体外观。如申请专利范围第5项所述之方法，其中该ZSM-5为螺旋结晶体外观。如申请专利范围第5项所述之方法，其中当该二氧化矽/三氧化二铝莫耳比例不超过22时，晶核反应步骤为10-20小时。如申请专利范围第12项所述之方法，其中该结晶过程约为96-200小时。如申请专利范围第1项所述之方法，其中该结晶步骤持续进行直到实际结晶率达到100%。一种制备ZSM-5的方法，包括下列步骤：混合一矽化物，一硷金属氧化物与水，以制备成一第一水溶液；混合一矽化物，一硷金属氧化物与水，以制备成一第二水溶液；混合该第一与第二水溶液，同时加入适量水，制备成一包含0.07-0.14莫耳比例的硷金属氧化物/二氧化矽，15-42莫耳比例的水/二氧化矽、以及20-100莫耳比例的二氧化矽/三氧化二铝之反应混合物；根据ZSM-5的结晶大小与颗粒尺寸分布状况，将反应化合物之温度维持于180-210℃，作用时间范围控制于2-20小时，以得到一晶核反应混合物；以及维持晶核反应于130-170℃中10-200小时，以形成ZSM-5的结晶体。如申请专利范围第15项所述之方法，其中该第一水溶液中之矽化物重量百分比浓度为21.5-26.7，且该第二水溶液中铝化物重量百分比浓度为0.9-4.4。如申请专利范围第15项所述之方法，其中该硷金属氧化物为硷金属氢氧化物。一种制备ZSM-5的方法，包括下列步骤：混合一矽化物，一硷金属氧化物与水，以制备成一第一水溶液；混合一矽化物，一硷金属氧化物与水，以制备成一第二水溶液；混合该第一与第二水溶液，同时加入适量水，制备成一包含0.07-0.14莫耳比例的硷金属氧化物/二氧化矽，15-42莫耳比例的水/二氧化矽、以及20-100莫耳比例的二氧化矽/三氧化二铝之反应混合物；根据ZSM-5的结晶大小与颗粒尺寸分布状况，将反应化合物之温度维持于180-210℃，作用时间范围控制于2-20小时，以得到一晶核反应混合物；以及维持晶核反应于130-170℃中10-200小时，以形成ZSM-5的结晶体。如申请专利范围第18项所述之方法，其中该第一水溶液中之矽化物重量百分比浓度为21.5-26.7，且该第二水溶液中之铝化物重量百分比浓度为0.9-4.4。如申请专利范围第18项所述之方法，其中该硷金属氧化物为硷金属氢氧化物。 |
