| 主权项 |
一种真空处理设备，其具有：一顶罩及一底罩，其彼此可分离地相结合以形成一处理空间；以及一分离单元，其透过在一水平方向上相对于该底罩倾斜移动该顶罩用于可分离地将该顶罩与该底罩相结合或分离。如申请专利范围第1项所述之真空处理设备，其中该分离单元包含有：一对导向单元，系配设于该底罩之各侧面，并且具有一自该底罩之水平面倾斜之导向槽；以及一移动单元，其与该导向单元相结合以致该顶罩能沿着该导向槽移动，以支承该顶罩。如申请专利范围第2项所述之真空处理设备，其中该导向单元与该底罩之各侧面相结合，或被一支承架所支承。如申请专利范围第2项或第3项所述之真空处理设备，其中该移动单元包含有：一对底支承单元，其与该导向单元相结合且沿着该导向槽移动；一对顶支承单元，其与该顶罩之各侧面相结合以便于支承该顶罩，并且与该底支承单元相结合；以及一线性驱动单元，用于沿着该导向槽移动该底支承单元。如申请专利范围第4项所述之真空处理设备，其中该顶支承单元包含有一用于旋转该顶罩之旋转单元。如申请专利范围第4项所述之真空处理设备，其中该线性驱动单元包含有：一形成于该导向单元之支齿条部份；一与该顶支承单元相结合之旋转马达；以及一小齿轮部份，其与该旋转马达之一旋转轴相结合且与该支齿条部份相结合。如申请专利范围第4项所述之真空处理设备，其中该底支承单元包含有：于支承该顶支承单元之支承件；以及一与该支承件相结合之导向块，其沿着形成于该导向单元之一导向槽移动。如申请专利范围第1项所述之真空处理设备，其中该分离单元包含有：一对导向单元，其分别配设于该底罩之各侧面，并且具有至少三个倾斜面；以及一移动单元，其具有分别配设于该倾斜面之滑块并且在该顶罩及该底罩彼此相结合之状态下沿着该倾斜面移动。如申请专利范围第8项所述之真空处理设备，其中该导向单元包含有：一第一导向轨道，其具有一第一倾斜面；以及一对第二导向轨道，系平行配设于该第一导向轨道之各侧面，并且其具有不与该第一倾斜面相重叠之第二倾斜面，其中该移动单元包含有：一或多个当该顶罩及该底罩彼此相结合，并且沿着该第一导向轨道移动时，配设于该第一倾斜面上之第一滚子；一或多个当该顶罩及该底罩彼此相结合，并且沿着该第二导向轨道移动时，配设于该第二倾斜面上之第二滚子；以及一支架，系用于将该第一滚子及该第二滚子可旋转地与该顶支承单元之一底面相结合。如申请专利范围第1项所述之真空处理设备，其中该分离单元包含有：一导向单元，其包含有一具有其间形成有间隙之一第一倾斜面及一第二倾斜面之第一导向轨道，以及一与该第一导向轨道平行配设且具有其间形成有间隙的一第一倾斜面及一第二倾斜面之第二导向轨道；以及一移动单元，其包含有一第一滚子单元及一第二滚子单元，第一滚子单元及第二滚子单元各具有一对可移动地沿着该第一导向轨道及该第二导向轨道配设之滚子，并且当对应于该第一导向轨道及该第二导向轨道该顶罩与该底罩彼此相结合时，第一滚子单元及第二滚子单元各配设于该第一倾斜面上。如申请专利范围第10项所述之真空处理设备，其中该第一导向轨道之该第一及第二倾斜面形成为与该第二导向轨道之该第一及第二倾斜面相分离而不彼此重叠。如申请专利范围第8项至第10项任何一项所述之真空处理设备，其中该移动单元包含有：一对顶支承单元，其可旋转地与该顶罩之侧面相结合以便于支承该顶罩；一滚子滑块，系配设于该顶支承单元之各底面且沿着该导向单元可移动；以及一线性驱动单元，系用于沿着该导向单元移动该滚子滑块。如申请专利范围第12项所述之真空处理设备，其中该顶支承单元包含有：一支承体，系透过一旋转轴与该顶罩之各侧面相连接；以及一旋转单元，系配设于该支承体用于旋转该顶罩。如申请专利范围第12项所述之真空处理设备，其中该线性驱动单元包含有：一形成于该导向单元之支齿条部份；一与该顶支承单元相结合之旋转马达；以及一小齿轮部份，其与该旋转马达之一旋转轴相结合且与该支齿条部份相结合。如申请专利范围第12项所述之真空处理设备，其中该分离单元更包含有一闭合单元，当一真空压力形成于该处理空间中时该闭合单元不需要水平移动向下将该顶罩闭合于该底罩上。如申请专利范围第15项所述之真空处理设备，其中该闭合单元包含有：一或多个导向槽，系在该导向单元之一纵向上配设于该第一及第二滚子单元上；以及一或多个导向件，其可移动地将该顶罩与该导向槽相结合上。如申请专利范围第9项或第10项所述之真空处理设备，其中该两个导向单元之一配设于该底罩之具有一开口部份之一侧面，一基板透过该开口部份进入该处理空间，并且该两个导向单元之另一个配设于具有该开口部份之该侧面之一相对侧面。如申请专利范围第17项所述之真空处理设备，其中配设于该底罩的具有该开口之该侧面的该导向单元配设于该开口之上。一种真空处理设备，其具有：一顶罩及一底罩，其彼此可分离地相结合以形成一处理空间；以及一分离单元，其具有一透过旋转将该顶罩与该底罩相结合或将该顶罩自该底罩上分离之凸轮单元。如申请专利范围第19项所述之真空处理设备，其中该分离单元包含有一对与该顶罩之各侧面相结合以便于支承该顶罩之滑块，并且其中该凸轮单元包含有：一或多个可旋转地配设于各滑块之凸轮件，用于透过旋转可分离地将该顶罩与该底罩相结合，该凸轮件被一配设于该底罩各侧面之支承单元所支承；以及一凸轮旋转部份，系用于旋转该凸轮件。如申请专利范围第20项所述之真空处理设备，其中该分离单元包含有：一对组成该支承单元之导向单元，系配设于该底罩之各侧面用于支承该凸轮件，用以水平移动该滑块；以及一线性驱动模块，其包含有一沿着该导向单元移动该滑块之水平驱动单元。如申请专利范围第20项或第21项所述之真空处理设备，其中该一对滑块可旋转地支承该顶罩。如申请专利范围第21项所述之真空处理设备，其中该凸轮件包含有：一或多个滚子，系透过该导向单元之支承旋转；以及一凸轮构成部份，其偏离中心与该滚子之一旋转轴相连接，并且可旋转地与该滑块相结合。如申请专利范围第20项或第21项所述之真空处理设备，其中该凸轮件包含有：一支承轴，系与该滑块相结合；以及一凸轮构成部份，系与该支承轴相结合且构成一凸轮。如申请专利范围第21项所述之真空处理设备，其中该线性驱动模块更包含有一被该导向单元支承且配设于该导向单元及该滑块间用于支承该滑块之支承滑块。如申请专利范围第20项所述之真空处理设备，其中该支承单元固设于该底罩之各侧面，并且该滑块实施为一对用于移动该支承滑块之导向单元，并且其中该分离单元包含有：一对支承滑块，系配设于该顶罩之各侧面以便于支承该顶罩，并且沿着该滑块移动；以及一水平驱动部份，系用于将该支承滑块沿着该导向单元移动。如申请专利范围第20项所述之真空处理设备，其中该导向单元包含有：一第一导向单元，系配设于该底罩之各侧面以便于透过该凸轮件之旋转上下移动；以及一第二导向单元，当该第一导向单元透过该凸轮件之旋转向上移动时，系与该第一导向单元于一定之高度相连接。 |
