发明名称 电浆处理装置及电浆处理方法
摘要
申请公布号 申请公布日期 2011.05.01
申请号 TW096105787 申请日期 2007.02.15
申请人 三菱重工业股份有限公司 发明人 松田龙一;井上雅彦;吉田和人;嶋津正
分类号 H01L21/3065 主分类号 H01L21/3065
代理机构 代理人 林志刚 台北市中山区南京东路2段125号7楼
主权项 一种电浆处理装置,其特征为:具有:处理容器,用于收容载置基板的支撑台;压力调整手段,用于调整上述处理容器内之压力;搬送手段,用于对上述支撑台进行基板之搬出入;气体供给手段,用于供给所要气体至上述处理容器;电浆产生手段,于上述处理容器上部具有圆形环状之天线,藉由从该天线射入之电磁波,使供给至上述处理容器内之气体电浆化;及控制手段,用于控制上述压力控制手段、上述搬送手段、上述气体供给手段、及上述电浆产生手段;上述控制手段,对上述基板进行所要之电浆处理时,在上述基板之搬出入时,系藉由上述气体供给手段对上述处理容器内供给惰性气体,藉由上述压力控制手段,相较于电浆密度呈拾倍变化之距离在使气体分子彼此间之平均自由行程变短的压力下,调整上述处理容器内之压力变动使成为特定范围内,藉由上述电浆产生手段,在离开上述基板之搬送区域的区域预先产生电浆,使上述电浆之区域远离上述基板之搬送区域,藉由上述搬送手段对上述支撑台进行基板之搬出入。一种电浆处理装置,其特征为:具有:处理容器,用于收容载置基板的支撑台;升降手段,用于升降上述支撑台;压力调整手段,用于调整上述处理容器内之压力;搬送手段,用于对上述支撑台进行基板之搬出入;气体供给手段,用于供给所要气体至上述处理容器;电浆产生手段,于上述处理容器上部具有圆形环状之天线,藉由从该天线射入之电磁波,使供给至上述处理容器内之气体电浆化;及控制手段,用于控制上述升降手段、上述压力控制手段、上述搬送手段、上述气体供给手段、及上述电浆产生手段;上述控制手段,对上述基板进行所要之电浆处理时,在上述基板之搬出入时,系藉由上述气体供给手段对上述处理容器内供给惰性气体,藉由上述压力控制手段调整上述处理容器内之压力变动使成为特定范围内,藉由上述电浆产生手段预先产生电浆,在上述支撑台载置之基板与上述处理容器之天井部分之间,相较于气体分子彼此间之平均自由行程,以使电浆密度呈拾倍变化之距离变长的方式,藉由上述升降手段下降上述支撑台,使上述基板之搬送区域离开上述电浆之区域,藉由上述搬送手段对上述支撑台进行基板之搬出入。如申请专利范围第1或2项之电浆处理装置,其中,上述搬送手段由以下构成:臂部,其上面用于载置上述基板;及驱动部,用于移动上述臂部;上述臂部,系由该臂部之尺寸大于上述基板之外径的导电性材料构成之同时,介由绝缘材料构成之绝缘构件安装于上述驱动部。一种电浆处理装置,其特征为:具有:处理容器,用于收容载置基板的支撑台;压力调整手段,用于调整上述处理容器内之压力;搬送手段,由以下构成:臂部,其由尺寸大于上述基板之外径的导电性材料构成之同时,上面用于载置上述基板;及驱动部,其介由绝缘材料构成之绝缘构件支撑上述臂部之同时,移动上述臂部;用于对上述支撑台进行基板之搬出入;气体供给手段,用于供给所要气体至上述处理容器;电浆产生手段,于上述处理容器上部具有圆形环状之天线,藉由从该天线射入之电磁波,使供给至上述处理容器内之气体电浆化;及控制手段,用于控制上述压力控制手段、上述搬送手段、上述气体供给手段、及上述电浆产生手段;上述控制手段,对上述基板进行所要之电浆处理时,在上述基板之搬出入时,系藉由上述气体供给手段对上述处理容器内供给惰性气体,藉由上述压力控制手段调整上述处理容器内之压力变动使成为特定范围内,藉由上述电浆产生手段预先产生电浆,藉由上述搬送手段使上述基板载置于上述臂部,对上述支撑台进行基板之搬出入。一种电浆处理方法,系于处理容器内之支撑台载置基板,对上述处理容器供给所要气体,调整上述处理容器内成为所要压力,藉由设于上述处理容器上部的圆形环状天线所射入之电磁波使供给至上述处理容器内之气体电浆化,而进行所要之电浆处理者;其特征为:对上述基板进行所要之电浆处理时,在上述基板之搬出入时,系对上述处理容器内供给惰性气体,调整上述处理容器内之压力变动使成为特定范围内,预先产生电浆之同时,相较于电浆密度呈拾倍变化之距离,在使气体分子彼此间之平均自由行程变短的压力下,在远离上述基板之搬送区域的区域预先产生小的电浆区域之电浆,降低上述基板之搬送区域中之电浆密度,而对上述支撑台进行基板之搬出入。一种电浆处理方法,系于处理容器内之支撑台载置基板,对上述处理容器供给所要气体,调整上述处理容器内成为所要压力,藉由设于上述处理容器上部的圆形环状天线所射入之电磁波使供给至上述处理容器内之气体电浆化,而进行所要之电浆处理者;其特征为:对上述基板进行所要之电浆处理时,在上述基板之搬出入时,系对上述处理容器内供给惰性气体,调整上述处理容器内之压力变动使成为特定范围内,预先产生电浆之同时,在上述支撑台载置之基板与上述处理容器之天井部分之间,相较于气体分子彼此间之平均自由行程,以使电浆密度呈拾倍变化之距离变长的方式,下降上述支撑台,使上述支撑台之位置离开上述电浆,降低上述基板之搬送区域中之电浆密度,而对上述支撑台进行基板之搬出入。如申请专利范围第5或6项之电浆处理方法,其中,藉由绝缘材料所构成绝缘构件而被设为非接地状态、由较上述基板外径大的导电性材料所构成之臂部,进行上述基板之搬送。一种电浆处理方法,系于处理容器内之支撑台载置基板,对上述处理容器供给所要气体,调整上述处理容器内成为所要压力,藉由设于上述处理容器上部自圆形环状天线所射入之电磁波使供给至上述处理容器内之气体电浆化,而进行所要之电浆处理者;其特征为:对上述基板进行所要之电浆处理时,在上述基板之搬出入时,系对上述处理容器内供给惰性气体,调整上述处理容器内之压力变动使成为特定范围内,预先产生电浆之同时,藉由绝缘材料所构成绝缘构件而被设为非接地状态、由较上述基板外径大的导电性材料所构成之臂部,对上述支撑台进行基板之搬出入。
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