发明名称 场发射显示器
摘要
申请公布号 申请公布日期 2011.05.01
申请号 TW094134328 申请日期 2005.09.30
申请人 鸿海精密工业股份有限公司 发明人 郭彩林;潜力;唐洁;刘亮;杜秉初;胡昭复;陈丕瑾;范守善
分类号 H01J31/12 主分类号 H01J31/12
代理机构 代理人
主权项 一种场发射显示器,包括一阴极装置、一与阴极装置相对之阳极装置及位于该阴极装置与该阳极装置之间之一第一栅极,其改进在于,该场发射显示器进一步包括一吸气剂层,该吸气剂层设置于第一栅极靠近所述阳极装置的表面,该吸气剂层为非蒸散式吸气剂构成。如申请专利范围第1项所述之场发射显示器,其中,所述之第一栅极材料为银。如申请专利范围第1项所述之场发射显示器,其中,所述之阴极装置包括奈米碳管、矽尖、金刚石、类金刚石或金属构成的场发射单元。如申请专利范围第1项所述之场发射显示器,其中,所述之第一栅极内分散有吸气剂。如申请专利范围第1项所述之场发射显示器,其中,所述之场发射显示器还包括一第二栅极,该第二栅极设置于所述第一栅极与所述阴极装置之间,该第二栅极与所述第一栅极之间设有一第一隔离层,该第二栅极与所述阴极装置之间设有一第二隔离层。如申请专利范围第5项所述之场发射显示器,其中,所述之第二栅极材料为银。如申请专利范围第5项所述之场发射显示器,其中,所述之第二栅极内分散有吸气剂。如申请专利范围第5项所述之场发射显示器,其中,所述之第二栅极表面设置有吸气剂层。如申请专利范围第1项所述之场发射显示器,其中,所述之非蒸散式吸气剂材料包括钛、锆、铪、钍、稀土金属及其合金。如申请专利范围第1项所述之场发射显示器,其中,所述之阳极装置包括前基板、设置于前基板表面之透明导电层,以及设置于透明导电层表面之萤光层。如申请专利范围第11项所述之场发射显示器,其中,所述之吸气剂层设置于第一栅极靠近所述萤光层的表面。
地址 新北市土城区自由街2号