| 主权项 |
一种包含式(I)结构单元之聚(甲矽烷基酯)的制法：@sIMGTIF!d10014.TIF@eIMG!其中各R4及R5可为羟基、或可独立选自氢、烷基、环烷基、芳基、烷氧基、芳氧基、-L'-SiR1R2-、-L'-SiR4R5R10、-L'-(SiR4R5L')n-SiR1R2-、烯基、炔基、芳烷基或芳烷基氧基基团，视情况地以一或多个独立选自包含烷基、烷氧基、芳烷基、芳烷基氧基、羟基、芳基、芳氧基、卤素、胺基(较佳地为三级胺基)或胺烷基基团之族群的取代基取代；或R4及/或R5可独立为-O-Z(O)-L-基团，其中R10是如下R7所定义的；其中各R1及R2可独立代表氢、羟基、烷基、环烷基、烯基、炔基、烷氧基、-L'-SiR4R5R10、芳基、芳氧基、芳烷基或芳烷基氧基基团，视情况地以一或多个独立选自包含烷基、烷氧基、芳烷基、芳烷基氧基、芳基、芳氧基、卤素、羟基、胺基(较佳地为三级胺基)或胺烷基基团之族群的取代基取代；或R1及/或R2各可独立为-O-Z(O)-L-基团；其中L代表烃基或经取代之烃基团，其中该经取代之烃基是以一或多个独立选自包含烷基、环烷基、芳烷基、芳烷基氧基、芳基、芳氧基、羟基、卤素、胺基或胺烷基基团之族群的取代基取代；或一种聚合物；L'代表O、S或NR6、L-(NR6-L)p(其中p=1至10)，其中R6是如下R7所定义的；或L；各n独立代表一些-Si(R4)(R5)-L'-基团，从0至1000；并且y代表一些甲矽烷基酯重覆单元，从2至100000，该方法包含的步骤为：将式(II)的多酸：@sIMGTIF!d10015.TIF@eIMG!其中Z(O)OH代表附于L的酸分子团，m为从2至100000的整数，并且L是如上述所定义的，与式(III)之聚醯氧基甲矽烷基衍生物反应：@sIMGTIF!d10016.TIF@eIMG!其中R1、R2、R4、R5、L'及n是如上述所定义的，除了在(III)中之R1、R2、R4及R5-O-为Z(O)-R8，其中R8是如下R7所定义的，当在(I)中的相当基团为-O-Z(O)-L-，并且R7为氢原子、芳烷基、芳基、烯基、炔基或烷基团时，视情况地以一或多个选自如上述R1、R2、R4及R5所定义之相当取代基的取代基取代；并且R3是-O-Z(O)-R9基团，其中R9是如上述R7所定义的；同时从系统中移除式(IV)及(V)及(VI)之所形成的酸基团：R7Z(O)OH(IV)、R9Z(O)OH(V)、R8Z(O)OH(VI)。根据申请专利范围第1项的方法，其中y为2至1000。根据申请专利范围第1及2项中任一项的方法，其中R4及R5各独立代表烷基、烷氧基、芳基、羟基团或-L'-(SiR4R5L')n-SiR1R2-基团，其中L'、R1、R2、R4、及R5如申请专利范围第1项所定义。根据申请专利范围第3项的方法，其中n=0-100。根据申请专利范围第3项的方法，其中n=0-10。根据申请专利范围第3项的方法，其中n=0或1。根据申请专利范围第1或2项的方法，其中(III)中的R4及R5各独立选自包含烷基、羟基、烷氧基或-L'-(SiR4R5L')n-SiR1R2-基团之族群，其中L'、R1、R2、R4及R5如申请专利范围第1项中所定义。根据申请专利范围第7项的方法，其中R1、R2、R4及R5各独立代表一个烷基团，为有分支的或直线的。根据申请专利范围第1或2项的方法，其中L'代表O。根据申请专利范围第1或2项的方法，其中Z代表C、POH、P或S=O，较佳为C。根据申请专利范围第1项的方法，其中R1、R2、R4、R5及R8各独立选自包含甲基、乙基、丙基、异丙基、异丁基、正-丁基、第二-丁基、第三-丁基、苯基及乙烯基的族群。根据申请专利范围第11项的方法，其中R1、R2、R4及R5是选自由甲基、乙基、异丙基、苯基及乙烯基所组成的族群。根据申请专利范围第11项的方法，其中R1、R2、R4、R5及R8是甲基。根据申请专利范围第1或2项的方法，其中R6是甲基。根据申请专利范围第1或2项的方法，其中R1及R2是相同的。根据申请专利范围第1或2项的方法，其中R7及R9基团是相同的。根据申请专利范围第16项的方法，其中R7及R9是烷基。根据申请专利范围第16项的方法，其中R7及R9是甲基。根据申请专利范围第1项的方法，其中式(II)的多酸是多羧酸。根据申请专利范围第19项的方法，其中该多羧酸是二羧酸。根据申请专利范围第1或2项的方法，其中L代表烷基、芳基、烯基、炔基或芳烷基团，或一种聚合物，较佳地包含1至10000个碳原子。根据申请专利范围第1项的方法，其中L代表-(CH2)n-，其中n是1至10之间的整数，较佳是在2及8之间，更佳是在4及6之间，最佳为4。根据申请专利范围第20项的方法，其中该二羧酸是选自己二酸、草酸、丁二酸、戊二酸、邻苯二甲酸、或间苯二甲酸、或对苯二甲酸、二-乳酸及似松香(rosinous)二羧酸。根据申请专利范围第1项的方法，其中式(III)之聚醯氧基甲矽烷基衍生物是选自四异丙基-1,3-二乙醯氧基二矽氧烷、四甲基-1,3-二乙醯氧基二矽氧烷、二甲基二乙醯氧基矽氧烷、二乙基二乙醯氧基矽烷、二苯基二乙醯氧基矽烷、二乙烯基甲基二乙醯氧基矽烷、甲基三乙醯氧基矽烷、乙基三乙醯氧基矽烷、乙烯基三乙醯氧基矽烷、苯基三乙醯氧基矽烷、四乙醯氧基矽烷、丁酸1,3,5-三乙基-1,3,5-三丙基-1,5-三矽氧烷二酯、(1,3,5-三乙基-1,3,5-三丙基)二丙酸1,5-三矽氧烷二酯、1,2,3,4-四氢-2-(7-羟基-1,1,3,3,5,5,7,7-八甲基四矽氧烷氧基)二醋酸2-矽烷萘-2-酯、1,2,3,4-四氢-2-(5-羟基-1,1,3,3,5,5-六甲基三矽氧烷氧基)二醋酸2-矽烷萘-2-酯、1,2,3,4-四氢-2-(3-羟基-1,1,3,3-四甲基三矽氧烷氧基)二醋酸2-矽烷萘-2-酯、1,3,5,7,9-五甲基-1,3,5,7,9-五乙烯基二醋酸1,9-五矽氧烷二酯、1,3,5,7-四乙烯基-1,3,5,7-四甲基二醋酸1,7-四矽氧烷二酯、1,1,3,3,5,5,7,7-八乙基二醋酸1,7-四矽氧烷二酯、1,3,5-三乙烯基-1,3,5-三甲基二醋酸1,5-三矽氧烷二酯、1,1,1,13-四乙醯氧基-3,3,5,5,7,7,9,9,11,11,13,13-十二甲基七矽氧烷、1,3,5-三乙基-1,3,5-三甲基二醋酸1,5-三矽氧烷二酯、1,1,3,3,5,5-六乙基二丁酸1,5-三矽氧烷二酯、1,1,3,3,5,5-六乙基二丙酸1,5-三矽氧烷二酯、1,3,5-三乙基-1,3,5-三丙基二醋酸1,5-三矽氧烷二酯、1,1,3,3,5,5-六乙基二醋酸1,5-三矽氧烷二酯、3,3,5,5,7,7-六甲基三醋酸1,1,1,7-四矽氧烷四酯、1,1,3,5,5-五甲基-3-乙烯基二醋酸1,5-三矽氧烷二酯、7-乙醯基-1,1,3,3,5,5,7,7-八甲基醋酸1-四矽氧烷酯、9-乙醯基-1,1,3,3,5,5,7,7,9,9-十甲基醋酸1-五矽氧烷酯、9-乙醯基-1,1,3,3,5,5,7,7,9,9-十甲基醋酸；五矽氧烷酯、十甲基二醋酸1,9-五矽氧烷二酯、六甲基二醋酸1,5-三矽氧烷二酯、十八甲基二醋酸1,17-九矽氧烷二酯、十六甲基二醋酸1,15-八矽氧烷二酯、十三甲基三醋酸1,7,13-七矽氧烷三酯、1,3,3,5,5,7,7-七甲基三醋酸1,1,7-四矽氧烷三酯、十四甲基二醋酸13-七矽氧烷二酯、1,1,3,3,5,5,7,7-八甲基二醋酸四矽氧烷二酯、二第三-丁基乙醯氧基矽烷及二第三-丁氧基乙醯氧基矽烷。根据申请专利范围第1或2项的方法，其中该反应是在适当溶剂中进行。根据申请专利范围第25项的方法，其中该溶剂是选自戊烷、环戊烷、己烷、环己烷、庚烷、甲苯、二甲苯、苯、三甲苯、乙基苯、辛烷、癸烷、十氢萘、二乙醚、二异丙醚、二异丁醚、N,N-二甲基甲醯胺、N-甲基四氢@sIMGCHAR!d10020.TIF@eIMG!咯酮、N,N-二甲基乙醯胺、及其混合物。根据申请专利范围第25项的方法，其中该溶剂与被蒸馏酸产物形成异相低沸共沸物。根据申请专利范围第1或2项的方法，其中在聚醯氧基甲矽烷基衍生物：酸中存在之反应基团的莫耳比率是在1：100及100：1之间。根据申请专利范围第1或2项的方法，其中在反应开始时，若存在，该溶剂是至少10重量%的总反应混合物。根据申请专利范围第1或2项的方法，其中分子量的范围是1000至1000000千道耳顿(kD)。根据申请专利范围第30项的方法，其中分子量的范围是1000至100000千道耳顿。根据申请专利范围第30项的方法，其中分子量的范围是1000至10000千道耳顿。根据申请专利范围第1或2项的方法，其中m为2。根据申请专利范围第1或2项的方法，其中各R4及R5可为羟基或可独立选自羟基，或可独立烷基、芳基、烷氧基、芳氧基、-L'-SiR1R2-、-L'-(SiR4R5L')n-SiR1R2-、烯基、炔基、芳烷基或芳烷基氧基基团，视情况地以一或多个选自包含烷基、烷氧基、芳烷基、芳烷基氧基、羟基、芳基、芳氧基、卤素、胺基(较佳地为三级胺基)或胺烷基基团之族群的取代基取代；或R4或R5可独立为-O-C(O)-L-基团；各R1及R2可独立代表氢、羟基、烷基、烯基、炔基、烷氧基或芳烷氧基基团，视情况地以一或多个独立选自包含烷基、烷氧基、芳烷基、芳烷基氧基、芳基、芳氧基、卤素、羟基、胺基(较佳地为三级胺基)或胺烷基基团之族群的取代基取代；或R1或R2可独立为-O-C(O)-L-基团；其中L代表烃基或经取代之烃基团，其中该经取代之烃基是以一或多个独立选自包含烷基、环烷基、羧基、芳烷基、芳烷基氧基、芳基、芳氧基、羟基、卤素、胺基或胺基烷基基团之族群的取代基取代，或有附有酸基团之聚合物；及L'代表O、S或NR6，其中R6如R7或L所定义的。根据申请专利范围第1或2项的方法，其包括加入该聚合物到薄膜或涂层组合物中的额外步骤。一种以申请专利范围第1至34项中任一项所定义之方法制备或获得的薄膜或涂层组合物。一种以申请专利范围第1至34项中任一项所定义之方法制备或获得的聚(甲矽烷基酯)。一种涂层或薄膜组合物，包含以根据申请专利范围第1至34项中任一项所定义之方法制备或获得的聚(甲矽烷基酯)。一种包含如申请专利范围第1至34项中任一项中所定义之重覆基团(I)的聚(甲矽烷基酯)，并且L是聚乳酸、或经取代之聚乳酸残基、或松香、或多羧酸之经取代的松香残基。一种涂层或薄膜组合物，包含根据申请专利范围第39项的聚(甲矽烷基酯)。根据申请专利范围第38或40项的涂层或薄膜组合物，其中该组合物是一种抗污涂层或薄膜组合物。根据申请专利范围第38或40项的涂层或薄膜组合物，其中该组合物是适用于医学及/或兽医用途，提供生物活性物质的控制释出。一种薄膜或涂层，包含根据申请专利范围第39项的聚(甲矽烷基酯)。一种可移植之医学及/或兽医装置，具有含有根据申请专利范围第38、40或42项的涂层或薄膜组合物的涂层。 |
