发明名称 METHOD AND DEVICE FOR TREATING A SUBSTRATE SURFACE OF A SUBSTRATE
摘要 <p>Bei einem Verfahren zur Behandlung einer Substratoberfläche eines flachen Substrats mit einem Prozessmedium an der Substratunterseite weist das Prozessmedium eine abtragende bzw. ätzende Wirkung auf die Substratoberfläche auf. Die Substrate werden horizontal liegend von unten mit dem Prozessmedium benetzt. Die nach oben weisende Substratoberseite wird mit Wasser oder einer entsprechenden Schutzflüssigkeit großflächig bzw. vollflächig benetzt oder bedeckt als Schutz gegen Einwirken des Prozessmediums auf die Substratoberseite.</p>
申请公布号 WO2011047894(A1) 申请公布日期 2011.04.28
申请号 WO2010EP60985 申请日期 2010.07.28
申请人 GEBR. SCHMID GMBH & CO.;SCHMID, CHRISTIAN 发明人 SCHMID, CHRISTIAN
分类号 H01L21/677;H01L31/18 主分类号 H01L21/677
代理机构 代理人
主权项
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