发明名称 |
METHOD AND DEVICE FOR TREATING A SUBSTRATE SURFACE OF A SUBSTRATE |
摘要 |
<p>Bei einem Verfahren zur Behandlung einer Substratoberfläche eines flachen Substrats mit einem Prozessmedium an der Substratunterseite weist das Prozessmedium eine abtragende bzw. ätzende Wirkung auf die Substratoberfläche auf. Die Substrate werden horizontal liegend von unten mit dem Prozessmedium benetzt. Die nach oben weisende Substratoberseite wird mit Wasser oder einer entsprechenden Schutzflüssigkeit großflächig bzw. vollflächig benetzt oder bedeckt als Schutz gegen Einwirken des Prozessmediums auf die Substratoberseite.</p> |
申请公布号 |
WO2011047894(A1) |
申请公布日期 |
2011.04.28 |
申请号 |
WO2010EP60985 |
申请日期 |
2010.07.28 |
申请人 |
GEBR. SCHMID GMBH & CO.;SCHMID, CHRISTIAN |
发明人 |
SCHMID, CHRISTIAN |
分类号 |
H01L21/677;H01L31/18 |
主分类号 |
H01L21/677 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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