Plasma-Prozess-Vorrichtung,申请号DE200911001420T-传众专利搜索

发明名称	Plasma-Prozess-Vorrichtung
摘要
申请公布号	DE112009001420(T5)	申请公布日期	2011.04.28
申请号	DE200911001420T	申请日期	2009.06.05
申请人	TOHOKU UNIVERSITY;TOKYO ELECTRON LTD.	发明人	HIRAYAMA, MASAKI;OHMI, TADAHIRO
分类号	H05H1/46;H01L21/265;H01L21/3065;H01L21/31	主分类号	H05H1/46
代理机构		代理人
主权项
地址