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Eine Beleuchtungsoptik für die Mikrolithographie dient zur Führung eines Beleuchtungs-Bündels von einer Strahlungsquelle hin zu einem Objektfeld (5) in einer Objektebene. Ein Feldfacettenspiegel (17) hat eine Mehrzahl von Feldfacetten (23) zur Vorgabe definierter Beleuchtungsverhältnisse im Objektfeld (5). Dem Feldfacettenspiegel (17) ist eine Folgeoptik zur Überführung des Beleuchtungslichts in das Objektfeld (5) nachgeordnet. Die Folgeoptik hat einen Pupillenfacettenspiegel mit einer Mehrzahl von Pupillenfacetten (31, 31). Einige der Feldfacetten (23) sind in Einzelspiegel (29) unterteilt, die Einzelspiegel-Ausleuchtungskanäle (30) vorgeben. Letztere beleuchten Objektfeldabschnitte (32), die kleiner sind als das Objektfeld (5). Zumindest einige der Einzelspiegel (29) sind als Korrektur-Einzelspiegel (29) ausgeführt. Letztere sind zwischen mindestens zwei Kippstellungen verkippbar, wobei in einer Grund-Kippstellung eine Zentralbereichs-Beleuchtung und in einer Korrektur-Kippstellung eine Umgebungsbereichs-Beleuchtung des Objektfeldes (5) erfolgt. Es resultiert eine Beleuchtungsoptik, mit der eine Korrektur von unerwünschten Variationen von Beleuchtungsparametern, insbesondere einer Beleuchtungsintensitätsverteilung über das Objektfeld, ohne Lichtverlust möglich ist.
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