微影-微影-蚀刻双图案化方法

摘要

本发明提供微影-微影-蚀刻双图案化方法。上述微影-微影-蚀刻双图案化方法是通过使用硅烷化固定反应，其包括：提供一基底具有一第一光致抗蚀剂层于其上，实施一第一微影工艺以产出第一图案化结构于该基底上，实施一硅烷化固定反应于该第一图案化结构，形成一第二光致抗蚀剂层覆盖该基底，以及实施一第二微影工艺以产出第二图案化结构于该基底上，其中该第一图案化构造和该第二图案化构造彼此之间交错设置。

主权项

一种微影‑微影‑蚀刻双图案化方法，使用硅烷化固定反应，包括：提供一基底具有一第一光致抗蚀剂层于其上；实施一第一微影工艺以产出第一图案化结构于该基底上；将一光产酸与一硅烷化试剂发生反应，以固定该第一图案化结构；形成一第二光致抗蚀剂层覆盖该基底；以及实施一第二微影工艺以产出第二图案化结构于该基底上。