| 发明名称 | 磁制冷结构 | ||
| 摘要 | 本发明公开一种磁制冷结构，其包括一磁制冷材料及至少一保护层。前述磁制冷材料为条状或板状。前述保护层设于前述磁制冷材料上。本发明磁制冷结构因呈特殊形状或具有保护层，故耐撞击力、吸热面积、抗氧化、可靠度及使用寿命等均被大幅提高，甚至不会有阻碍工作流体流动路径的情形发生，本发明可以大幅度提高可靠度及使用寿命。 | ||
| 申请公布号 | CN102032707A | 申请公布日期 | 2011.04.27 |
| 申请号 | CN201010287595.5 | 申请日期 | 2010.09.17 |
| 申请人 | 台达电子工业股份有限公司 | 发明人 | 张力;温惠玲;孟世平;郭钟荣 |
| 分类号 | F25B21/00(2006.01)I;H01F1/00(2006.01)I;C09K5/14(2006.01)I | 主分类号 | F25B21/00(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人 | 陈小雯 |
| 主权项 | 一种磁制冷结构，包括：磁制冷材料，该磁制冷材料为条状或板状；以及至少一保护层，设于该磁制冷材料上。 | ||
| 地址 | 中国台湾桃园县 | ||