发明名称 有机金属化合物
摘要 本发明公开了一种有机金属化合物以及使用特定的包括含羰基配体的有机金属化合物气相沉积含金属薄膜的方法。
申请公布号 CN102031495A 申请公布日期 2011.04.27
申请号 CN201010538913.0 申请日期 2010.09.14
申请人 罗门哈斯电子材料有限公司 发明人 Q·M·王;D·V·谢奈-卡特哈特;H·李
分类号 C23C16/18(2006.01)I;C23C16/455(2006.01)I 主分类号 C23C16/18(2006.01)I
代理机构 上海专利商标事务所有限公司 31100 代理人 樊云飞
主权项 一种沉积含金属薄膜的方法,包括在气相沉积反应器中提供基材;将式[R2R1N(CO)]nM+mL1(m‑n)/pL2q的有机金属化合物以气相形式传送至反应器;分解该有机金属化合物使含金属膜沉积在基材上;其中R1和R2独立选自H,(C1‑C12)烷基,(C2‑C12)烯基,(C2‑C12)炔基,二(C1‑C12)烷基氨基,二(甲硅烷基(C1‑C12)烷基)氨基,二甲硅烷基氨基,二((C1‑C12)烷基甲硅烷基)氨基,(C1‑C12)烷基亚氨基,(C1‑C12)烷基氧膦基,二(C1‑C12)烷基氨基(C1‑C12)烷基,二(C1‑C12)烷基氨基(C2‑C12)烯基,二(C1‑C12)烷基氨基(C2‑C12)炔基,二(C1‑C12)烷基膦基(C1‑C12)烷基,二(C1‑C12)烷基膦基(C2‑C12)烯基,二(C1‑C12)烷基膦基(C2‑C12)炔基,(C1‑C12)烷氧基(C1‑C12)烷基,和芳基;X=N或P;M=第7族到第10族的金属;L1=含p个负电荷的阴离子配体;L2=中性配体;m=M的化合价;n=1‑6;p=1‑2;q=0‑4;其中m≥n。
地址 美国马萨诸塞州