发明名称 |
一种碳基钨涂层及其制备方法 |
摘要 |
本发明提供一种碳基钨涂层,其特征在于包含碳基体和钨涂层两部分,均匀致密且具有一定厚度的钨涂层牢固地附着在碳基体表面。纯净的钨板作为靶材。碳材料作为基体,优先选择C/C复合材料和石墨。本发明的优点在于:(1)钨涂层沉积速度较快,大大提高了涂层制备的效率。(2)钨靶和碳基体之间产生高密度的等离子云,大量的钨原子不但覆盖在碳基体表面,基体的侧面和背面也包附了钨涂层。(3)涂层表面致密,没有出现裂纹。(4)涂层和C/C复合材料基体结合较好。 |
申请公布号 |
CN101148102B |
申请公布日期 |
2011.04.27 |
申请号 |
CN200710135109.6 |
申请日期 |
2007.11.08 |
申请人 |
南京航空航天大学 |
发明人 |
陈照峰;张颖;王亮兵;吴王平 |
分类号 |
B32B9/00(2006.01)I;C23C14/18(2006.01)I;C23C14/02(2006.01)I;C23C14/22(2006.01)I;C23C14/54(2006.01)I |
主分类号 |
B32B9/00(2006.01)I |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
一种碳基钨涂层的制备方法,其特征在于采用双辉等离子炉,包含下述顺序的步骤:(1)碳材料表面用晶相砂纸处理并超声清洗,之后烘干;(2)将碳基体放入双辉炉阴极上,抽真空通入氩气,将阴极电压调节到300‑350V,加热清洗碳基体0.5h‑2h;(3)开炉将钨板放入双辉炉源极上,关炉,抽真空通入氩气,按照设定好的双层辉光离子渗金属工艺参数,以钨板作为靶材进行钨涂层沉积;(4)将制备好的碳基钨涂层在1000℃‑1300℃进行高温处理0.5小时~2小时。 |
地址 |
210016 江苏省南京市御道街29号 |