发明名称 |
磁铁单元和磁控溅射装置 |
摘要 |
本发明提供一种磁铁单元和磁控溅射装置。该磁铁单元不增加靶的长度、宽度就能够使成膜在基板上的薄膜的膜厚分布均匀。磁铁单元(10)包括:环状外周磁铁(30),其沿着靶(6)的轮廓配置在阴极电极背面侧的磁轭(20)上;内部磁铁(40),其配置在外周磁铁内且极性与外周磁铁的极性不同,该磁铁单元(10)形成磁轨(MT),该磁轨(MT)是在上述靶上产生的磁力线(M)的切线与上述靶面平行的区域的集合,该磁铁单元(10)还包括:n(n是2以上的正整数)根延伸磁极部(41),其自内部磁铁的部朝着长度方向的两侧延伸且接近外周磁铁的长度方向的两端;n-1根突出磁极部(32),其自外周磁铁的两端内侧朝着长度方向的内方突出,位于n根延伸磁极部之间,n根延伸磁极部和n-1根突出磁极部在磁轨的长度方向两端部形成数量为2n-1的折回形状部(U)。 |
申请公布号 |
CN102037154A |
申请公布日期 |
2011.04.27 |
申请号 |
CN200980118213.1 |
申请日期 |
2009.07.09 |
申请人 |
佳能安内华股份有限公司 |
发明人 |
远藤彻哉;爱因斯坦·诺埃尔·阿巴拉 |
分类号 |
C23C14/35(2006.01)I |
主分类号 |
C23C14/35(2006.01)I |
代理机构 |
北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 |
代理人 |
刘新宇;张会华 |
主权项 |
一种磁控溅射装置的磁铁单元,该磁铁单元被配置在用于支承矩形的靶的阴极电极的背面侧,其包括:磁轭,其由强磁性板材构成;环状的外周磁铁,其沿着上述靶的轮廓配置在该磁轭上;内部磁铁,其配置在上述磁轭上的上述外周磁铁的内部且极性与上述外周磁铁的极性不同,该磁铁单元利用上述外周磁铁和上述内部磁铁形成磁轨,该磁轨作为在上述靶上产生的磁力线的切线与上述靶面平行的那样的区域的集合,其特征在于,该磁铁单元还包括:n根延伸磁极部,其自上述内部磁铁的中央部朝着长度方向的两侧延伸且接近上述外周磁铁的长度方向的两端,n是2以上的正整数;n‑1根突出磁极部,其自上述外周磁铁的两端内侧朝着长度方向的内方突出,位于上述n根延伸磁极部之间;上述n根延伸磁极部和上述n‑1根突出磁极部在上述磁轨的长度方向的两端部形成数量为2n‑1的折回形状部。 |
地址 |
日本神奈川县 |