荫罩式等离子显示器前基板介质层制作方法

摘要

一种荫罩式等离子显示器前基板介质层制作方法，在布置好电极线的玻璃基板(1)上显示区域涂覆介质浆料并采用低温烧成得到非透明的介质层(6)，在该介质层(6)上贴覆具有光敏特性的干膜，通过光刻工艺在干膜上制作掩模图形(7)；采用喷砂工艺利用介质材料和掩膜图形(7)的选择性刻蚀形成带有图形的介质层(6)，该介质图形只覆盖在面板上显示区域电极线的两侧及顶端。本发明的等离子显示面板上介质层的制作方法具有生产成本低，无需高温烧成、面板黄化现象减弱，耐压性能好，透光率高的优点。

主权项

一种荫罩式等离子显示器前基板介质层制作方法，其特征是它包括以下步骤：(a).在布置好带有图形的电极(4)的玻璃基板(1)的显示区域涂覆介质浆料，然后放在平整的台面上流平使玻璃基板(1)表面各处的介质浆料均匀，烘干介质浆料；(b).对带有介质浆料的玻璃基板(1)进行烧结，得到带有介质层(6)的玻璃基板(1)；(c).在介质层(6)上贴覆干膜，通过光刻工艺在干膜上形成与电极(4)图形相匹配的掩模图形(7)，掩模图形(7)的各线条宽度是电极(4)的各线条宽度加上一个d值，d的取值范围在0‑50μm；(d).对带有掩模图形(7)的介质层(6)进行喷砂，去除电极(4)间的介质，形成与电极相匹配的带有图形的介质层(6)；(e).用喷淋溶液对带有图形介质层(6)的玻璃基板(1)进行喷淋，溶解除去掩模图形(7)得到介质层仅覆盖电极(4)周边的前基板介质层。