发明名称 CHEMICAL MECHANICAL POLISHING PAD WITH MICRO-HOLES
摘要
申请公布号 EP1430520(B1) 申请公布日期 2011.04.27
申请号 EP20010965709 申请日期 2001.08.29
申请人 SKC CO., LTD. 发明人 PARK, IN-HA;KWON, TAE-KYOUNG;KIM, JAE-SEOK
分类号 B24B37/00;H01L21/304;B24B37/04;B24D13/14;H01L21/302 主分类号 B24B37/00
代理机构 代理人
主权项
地址