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经营范围
发明名称
CHEMICAL MECHANICAL POLISHING PAD WITH MICRO-HOLES
摘要
申请公布号
EP1430520(B1)
申请公布日期
2011.04.27
申请号
EP20010965709
申请日期
2001.08.29
申请人
SKC CO., LTD.
发明人
PARK, IN-HA;KWON, TAE-KYOUNG;KIM, JAE-SEOK
分类号
B24B37/00;H01L21/304;B24B37/04;B24D13/14;H01L21/302
主分类号
B24B37/00
代理机构
代理人
主权项
地址
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