电磁屏蔽膜及具有该电磁屏蔽膜的镜头模组

摘要

本发明提供一种电磁屏蔽膜，该电磁屏蔽膜形成于光学元件上，光学元件有用于改善光学性能的滤光膜，滤光膜上覆盖有用于限制光线进入的遮光膜，遮光膜上覆盖有电磁屏蔽膜。该电磁屏蔽膜包括第一金属层及第二金属层，第一金属层为不锈钢材料，第一金属层直接形成于第一金属层遮光膜表面，第二金属层是铜，第二金属层形成于第一金属层表面。本发明提供的电磁屏蔽膜没有采用完全是铜的膜层直接附着在遮光膜表面上，从而避免因铜直接附着在遮光膜上产生的应力大、附着性差问题，并可以获得更厚的膜，达到更好的电磁屏蔽效果。另，本发明还提供一种具有所述电磁屏蔽膜的镜头模组。

主权项

一种电磁屏蔽膜，该电磁屏蔽膜形成于光学元件上，所述光学元件有用于改善光学性能的滤光膜，所述滤光膜上覆盖有用于限制光线进入的遮光膜，所述遮光膜上覆盖有所述电磁屏蔽膜，其特征在于，该电磁屏蔽膜包括第一金属层及第二金属层，所述第一金属层为不锈钢材料，所述第一金属层直接形成于所述遮光膜表面，所述第二金属层是铜，所述第二金属层形成于所述第一金属层表面。