发明名称 |
光掩模坯、光掩模以及光掩模制造方法 |
摘要 |
本发明提供一种不附着颗粒的光掩模及其制造方法。在相移层(11)上层叠粘接层(12)、刻蚀停止层(13)、遮光层(14),在利用刻蚀液部分地对遮光层(14)进行刻蚀时,利用刻蚀停止层(13)阻止刻蚀的进行,然后,利用氧等离子体除去在遮光层(14)上形成的开口底面的刻蚀停止层。用抗蚀剂覆盖成为相移区域的开口(24),利用刻蚀液除去成为透光区域的开口底面的相移区域(11)。由残留有遮光层(14)的部分形成遮光区域,得到光掩模。将各层(11)~(14)全部形成之后,进行使用了刻蚀液的刻蚀,所以,不存在颗粒的附着。 |
申请公布号 |
CN102033417A |
申请公布日期 |
2011.04.27 |
申请号 |
CN201010298454.3 |
申请日期 |
2010.09.29 |
申请人 |
株式会社爱发科 |
发明人 |
谷典明;中村久三;清田淳也;铃木寿弘;三村寿文 |
分类号 |
G03F1/08(2006.01)I;G03F7/00(2006.01)I |
主分类号 |
G03F1/08(2006.01)I |
代理机构 |
中国专利代理(香港)有限公司 72001 |
代理人 |
闫小龙;王忠忠 |
主权项 |
一种光掩模坯,具有透明衬底和配置在所述透明衬底上的掩模层,其特征在于,所述掩模层具有:配置在所述透明衬底上的半透明的相移层;配置在所述相移层上的刻蚀停止层;以及配置在所述刻蚀停止层上的具有遮光性的遮光层,所述刻蚀停止层由含有碳并且能够燃烧的材料构成,并且,由不被对所述遮光层进行刻蚀的遮光层刻蚀液刻蚀的材料形成。 |
地址 |
日本神奈川县 |