发明名称 |
采用负性光刻胶刻蚀玻璃或金属基底的方法以及采用该方法制备印刷版的方法 |
摘要 |
本发明涉及一种采用负性光刻胶刻蚀玻璃或金属的方法以及采用该方法制备印刷版的方法。在根据本发明的刻蚀玻璃或金属的方法中,由于负性光刻胶与金属或金属氧化物之间的粘合强度优异,光刻胶层不会被金属或金属氧化物刻蚀溶液腐蚀,所以不必制备反型光掩膜,制备方法简单且能够使用例如混合波长型光源的低分辨率光源,从而确保了经济效益。 |
申请公布号 |
CN101675504B |
申请公布日期 |
2011.04.27 |
申请号 |
CN200880014683.9 |
申请日期 |
2008.09.22 |
申请人 |
LG化学株式会社 |
发明人 |
金志洙;田景秀;崔庚铢;李基罗;李承宪;申东明 |
分类号 |
H01L21/306(2006.01)I |
主分类号 |
H01L21/306(2006.01)I |
代理机构 |
北京金信立方知识产权代理有限公司 11225 |
代理人 |
黄丽娟;徐琳 |
主权项 |
一种刻蚀玻璃的方法,其包括以下步骤:a)在设置于玻璃表面上的金属层或金属氧化物层上形成负性光刻胶层;b)使所述负性光刻胶层选择性地曝光;c)使所述负性光刻胶层的未曝光部分显影从而使负性光刻胶层图形化;d)刻蚀金属层或金属氧化物层,该部分金属层或金属氧化物层上没有涂敷步骤c)中被图形化的负性光刻胶层;和e)刻蚀玻璃,该部分玻璃上没有涂敷步骤d)中被图形化的金属层或金属氧化物层。 |
地址 |
韩国首尔 |