发明名称 |
视差屏障的制造方法及光掩模的制造方法 |
摘要 |
本发明提供可良好显示立体图像的视差屏障的制造方法及光掩模的制造方法。包括:在透光性基板上形成遮光层的工序;沿第1及第2形成方向(X、Y),使遮光部(52)及开口部(53)交互排列地去除遮光层的一部分而形成大致矩形状的多个开口部(53)的图形形成工序;沿相对第1形成方向倾斜角度θ的第1切取方向(X′)及相对第2形成方向倾斜角度θ的第2切取方向(Y′)切取透光性基板的切取工序。图形形成工序中,将沿第1形成方向排列的多个开口部(53),以比基于显示单元的行方向的像素间距所规定的视差屏障(5)的行方向的理想开口间距小的均等间距(Bh)形成,并仿照第1切取方向,在第2形成方向错开,按台阶状排列地形成。 |
申请公布号 |
CN102033323A |
申请公布日期 |
2011.04.27 |
申请号 |
CN201010502391.9 |
申请日期 |
2010.09.29 |
申请人 |
精工爱普生株式会社 |
发明人 |
中谷英司 |
分类号 |
G02B27/22(2006.01)I;G03F7/00(2006.01)I |
主分类号 |
G02B27/22(2006.01)I |
代理机构 |
北京市中咨律师事务所 11247 |
代理人 |
陈海红;段承恩 |
主权项 |
一种视差屏障的制造方法,该视差屏障具有遮挡光的遮光部及使光通过的开口部,通过上述遮光部及上述开口部分离由具有排列成矩阵状的多个像素的显示单元所显示的右眼用图像及左眼用图像,该制造方法的特征在于,包括:在具有透光性的透光性基板上形成遮挡光的遮光层的遮光层形成工序;沿第1形成方向及与上述第1形成方向正交的第2形成方向,以使得上述遮光部及上述开口部交互排列的方式,去除上述遮光层的一部分而形成大致矩形状的多个上述开口部的图形形成工序;以及沿相对于上述第1形成方向按预定的角度倾斜的第1切取方向及相对于上述第2形成方向按上述角度倾斜的第2切取方向,切取上述透光性基板的切取工序,在上述图形形成工序中,将沿上述第1形成方向排列的多个上述开口部,以比基于上述显示单元中的行方向的像素间距所规定的上述视差屏障的上述行方向的理想开口间距小的均等间距形成,并且形成为,以仿照上述第1切取方向的方式,在上述第2形成方向上错开而按台阶状排列。 |
地址 |
日本东京都 |