一种高强度高导电性纳米晶体铜材料及制备方法

摘要

本发明涉及纳米晶体金属材料，具体地说是一种高强度高导电性纳米晶体铜材料及制备方法。将电解沉积纳米金属铜材料在室温下进行激光冲击处理，激光冲击参数为：脉冲频率5ns，冲击功率60~80mJ，光斑尺寸2mm，波长1064nm，选用的涂层是15μm厚的铝箔，约束层采用K9玻璃，采用搭接冲击处理的方法，搭接率为33%，应变率为1×10^-6~1×10^-7/s。本发明制备的纳米晶体铜材料，硬度提高了36~55%，弹性模量提高了60~207%，综合机械性能得到了很大提高，相应的电阻率从ρ=1.52~1.58*下降为ρ=1.34~1.38，能够同时满足高强度和高导电性的需要。

主权项

一种高强度高导电性纳米晶体铜材料的制备方法，其特征在于：包括如下步骤：1) 利用电解沉积技术制备三维块状纳米晶体铜材料；2) 制备高强度高导电性纳米晶体铜材料：将上述电解沉积纳米金属铜材料在室温下进行激光冲击处理，激光冲击参数为：脉冲频率5ns，冲击功率60~80mJ，光斑尺寸2mm，波长1064nm，选用的涂层是15μm厚的铝箔，约束层采用K9玻璃，采用搭接冲击处理的方法，搭接率为33%，应变率为1×10‑6~1×10‑7/s。