发明名称 吸附用构件、使用其的吸附装置及带电粒子线装置
摘要 本发明涉及吸附用构件、使用其的吸附装置及带电粒子线装置。本发明提供一种吸附用构件,其载置于设置有多个吸引孔的吸附台上,保持被吸附在该吸附台上的对象物。吸附用构件具有能够拆装地载置于吸附台上的基板。基板具有:吸附区域,其配置对象物,且能够进行基于吸引孔的吸引;吸附遮断区域,其设置于该吸附区域的外周,且将多个吸引孔中的一部分吸引孔覆盖。
申请公布号 CN102034732A 申请公布日期 2011.04.27
申请号 CN201010503860.9 申请日期 2010.09.30
申请人 京瓷株式会社 发明人 井上彻弥
分类号 H01L21/683(2006.01)I;G03F7/20(2006.01)I 主分类号 H01L21/683(2006.01)I
代理机构 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人 刘文海
主权项 一种吸附用构件,载置于设置有多个吸引孔的吸附台上,且通过基于所述吸引孔的吸引而吸附对象物,所述吸附用构件的特征在于,具有能够拆装地载置于所述吸附台上的基板,所述基板具有:吸附区域,其载置所述对象物,且能够进行基于所述吸引孔的吸引而吸附所述对象物;吸附遮断区域,其设置于该吸附区域的外周,且将所述多个吸引孔中的一部分覆盖。
地址 日本京都府