发明名称 |
吸附用构件、使用其的吸附装置及带电粒子线装置 |
摘要 |
本发明涉及吸附用构件、使用其的吸附装置及带电粒子线装置。本发明提供一种吸附用构件,其载置于设置有多个吸引孔的吸附台上,保持被吸附在该吸附台上的对象物。吸附用构件具有能够拆装地载置于吸附台上的基板。基板具有:吸附区域,其配置对象物,且能够进行基于吸引孔的吸引;吸附遮断区域,其设置于该吸附区域的外周,且将多个吸引孔中的一部分吸引孔覆盖。 |
申请公布号 |
CN102034732A |
申请公布日期 |
2011.04.27 |
申请号 |
CN201010503860.9 |
申请日期 |
2010.09.30 |
申请人 |
京瓷株式会社 |
发明人 |
井上彻弥 |
分类号 |
H01L21/683(2006.01)I;G03F7/20(2006.01)I |
主分类号 |
H01L21/683(2006.01)I |
代理机构 |
中科专利商标代理有限责任公司 11021 |
代理人 |
刘文海 |
主权项 |
一种吸附用构件,载置于设置有多个吸引孔的吸附台上,且通过基于所述吸引孔的吸引而吸附对象物,所述吸附用构件的特征在于,具有能够拆装地载置于所述吸附台上的基板,所述基板具有:吸附区域,其载置所述对象物,且能够进行基于所述吸引孔的吸引而吸附所述对象物;吸附遮断区域,其设置于该吸附区域的外周,且将所述多个吸引孔中的一部分覆盖。 |
地址 |
日本京都府 |