| 发明名称 | 研磨垫与其应用和其制造方法 | ||
| 摘要 | 本发明涉及一种研磨垫，其包含用于研磨衬底的研磨层、包含多个连通性孔洞的缓冲层和用于将所述缓冲层粘合至所述研磨层的粘合层，且所述粘合层是由具有流动性的高分子聚合而成。本发明还提供一种研磨衬底的方法，其包含使用所述研磨垫，和一种制造上述研磨垫的方法。 | ||
| 申请公布号 | CN102029571A | 申请公布日期 | 2011.04.27 |
| 申请号 | CN200910176177.6 | 申请日期 | 2009.09.24 |
| 申请人 | 贝达先进材料股份有限公司 | 发明人 | 冯崇智;姚伊蓬;洪永璋;王良光;吴文杰 |
| 分类号 | B24B37/04(2006.01)I;H01L21/304(2006.01)I | 主分类号 | B24B37/04(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287 | 代理人 | 孟锐 |
| 主权项 | 一种研磨垫，其包含：研磨层，其包含研磨表面，所述研磨表面用于研磨衬底；缓冲层，其包含多个连通性孔洞，其中所述缓冲层的压缩率高于所述研磨层的压缩率；和粘合层，其是由具流动性的高分子聚合而成，用于将所述缓冲层粘合至所述研磨层。 | ||
| 地址 | 中国台湾桃园县龙潭乡高原村渴望路185号5楼之2 | ||