| 发明名称 | 液浸曝光用放射线敏感性树脂组合物、聚合物及抗蚀剂图案形成方法 | ||
| 摘要 | 本发明的目的在于，提供一种液浸曝光用放射线敏感性树脂组合物、聚合物及抗蚀剂图案形成方法，其中，所述液浸曝光用放射线敏感性树脂组合物对放射线的透明性高、灵敏度等作为抗蚀剂的基本物性优异、同时最小倒塌尺寸(倒塌)优异、且液浸曝光工艺中的图案形状的参差不齐得到改善。本发明的液浸曝光用放射线敏感性树脂组合物含有(A)树脂成分、(B)放射线敏感性产酸剂和(C)溶剂，其中，(A)树脂成分在将该(A)树脂成分设定为100质量％时含有超过50质量％的含酸离解性基团树脂(A1)，所述含酸离解性基团树脂(A1)包含在侧链具有氟原子和酸离解性基团的重复单元(a1)。 | ||
| 申请公布号 | CN102037030A | 申请公布日期 | 2011.04.27 |
| 申请号 | CN200980117928.5 | 申请日期 | 2009.05.18 |
| 申请人 | JSR株式会社 | 发明人 | 松村信司;征矢野晃雅;浅野裕介;成冈岳彦;榊原宏和;志水诚;西村幸生 |
| 分类号 | C08F20/28(2006.01)I;C07C69/96(2006.01)I;G03F7/039(2006.01)I;H01L21/027(2006.01)I | 主分类号 | C08F20/28(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人 | 左嘉勋;顾晋伟 |
| 主权项 | 一种液浸曝光用放射线敏感性树脂组合物，其特征在于，是含有(A)树脂成分、(B)放射线敏感性产酸剂和(C)溶剂的放射线敏感性树脂组合物，所述(A)树脂成分在将该(A)树脂成分整体设定为100质量％时含有超过50质量％的含酸离解性基团树脂(A1)，所述含酸离解性基团树脂(A1)包含在侧链具有氟原子和酸离解性基团的重复单元(a1)。 | ||
| 地址 | 日本东京都 | ||