| 发明名称 | 含碳基板的图案化方法 | ||
| 摘要 | 本发明公开了一种含碳基板的图案化方法。含碳基板的图案化方法包括以下步骤：提供一含碳基板。于一常压下，以一等离子气体产生一大气等离子。等离子气体包含一氧气。以大气等离子蚀刻含碳基板。本发明的含碳基板的图案化方法，其利用由含氧的大气等离子来蚀刻含碳基板，使得含碳基板的图案化工艺可以增加速率且更加便利。 | ||
| 申请公布号 | CN102034739A | 申请公布日期 | 2011.04.27 |
| 申请号 | CN201010114396.4 | 申请日期 | 2010.02.09 |
| 申请人 | 财团法人工业技术研究院 | 发明人 | 张加强;吴清吉;黄淑娟;许文通;胡志明;郭信良 |
| 分类号 | H01L21/768(2006.01)I | 主分类号 | H01L21/768(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 | 代理人 | 梁挥;祁建国 |
| 主权项 | 一种含碳基板的图案化方法，其特征在于，包括：提供一含碳基板；于一常压下，以一等离子气体产生一大气等离子，该等离子气体包含一氧气；以及以该大气等离子蚀刻该含碳基板。 | ||
| 地址 | 中国台湾新竹县 | ||