发明名称 |
阵列基板及其制造方法 |
摘要 |
本发明涉及一种阵列基板及其制造方法。该阵列基板包括衬底基板,衬底基板上设置有电路图案,其中还包括覆盖层,覆盖电路图案的上表面和侧面。该制造方法包括在衬底基板上沉积电路图案薄膜,并对电路图案薄膜进行构图工艺形成电路图案的步骤,其中还包括:在形成电路图案的衬底基板上沉积覆盖层薄膜,并对覆盖层薄膜进行构图工艺形成包括覆盖层的图案,覆盖层覆盖电路图案的上表面和侧面。本发明采用覆盖层覆盖电路图案上表面和侧面的技术手段,使电路图案采用易扩散金属制备时,也能够减少甚至避免向侧面绝缘层中扩散的问题,不会影响绝缘层的性能。 |
申请公布号 |
CN102033343A |
申请公布日期 |
2011.04.27 |
申请号 |
CN200910093194.3 |
申请日期 |
2009.09.25 |
申请人 |
北京京东方光电科技有限公司 |
发明人 |
谢振宇;刘翔;陈旭 |
分类号 |
G02F1/133(2006.01)I;G02F1/1362(2006.01)I;G02F1/1368(2006.01)I;H01L27/02(2006.01)I;H01L21/82(2006.01)I |
主分类号 |
G02F1/133(2006.01)I |
代理机构 |
北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 |
代理人 |
刘芳 |
主权项 |
一种阵列基板,包括衬底基板,所述衬底基板上设置有电路图案,其特征在于,还包括:覆盖层,覆盖所述电路图案的上表面和侧面。 |
地址 |
100176 北京市经济技术开发区西环中路8号 |