成像和显影正性工作可成像元件的方法

摘要

一种制造例如平版印刷版的成像元件的方法，通过成像曝光红外辐射-敏感正性工作可成像元件来提供曝光的和未曝光的区域。使用pH为9至11.5并且含有碳酸盐离子和至少1wt％的一种或多种阴离子表面活性剂的单一处理溶液，仅主要去除曝光的区域，形成图像和在成像表面上形成保护涂层，使成像元件显影。可成像元件包括基材和辐射吸收化合物，并且在基材上具有可成像层，所述可成像层包括显影增强化合物和聚(乙烯醇缩醛)，其中聚(乙烯醇缩醛)的重复单元的至少25mol％包括侧挂硝基-取代的苯酚基。

主权项

一种制造成像元件的方法，包括：A)成像曝光红外辐射敏感的正性工作可成像元件，该可成像元件包括基材和红外辐射敏感化合物，并且所述基材上具有包括显影性增强化合物和聚(乙烯醇缩醛)的可成像层，其中聚(乙烯醇缩醛)的重复单元的至少25mol％包括侧挂硝基‑取代的苯酚基，以提供已曝光和未曝光区域，和B)向所述成像曝光的元件施涂pH为9至11.5的单一处理溶液，(1)仅主要去除已曝光区域，和(2)在所得平版印刷版的全部所述未曝光和已曝光区域上提供保护涂层，所述单一处理溶液包括碳酸盐和至少1wt％的一种或多种阴离子表面活性剂。