发明名称 光学玻璃、精密模压成形用预成形件、光学元件及其制造方法
摘要 提供一种光学玻璃、精密模压成形用预成形件、光学元件及其制造方法。光学玻璃以阳离子%表示包含:20~50%的B3+、5~35%的La3+、1~30%的Nb5+、0.5~15%的Ta5+、11~40%的Zn2+作为必须组分,B3+和Si4+的总含量(B3++Si4+)为20~50%,La3+、Gd3+以及Y3+的总含量为5~35%,阳离子比((B3++Si4+)/(La3++Gd3++Y3+))为1~5,Ti4+、Nb5+、Ta5+以及W6+的总含量为10~35%,阳离子比((Nb5++Ta5+)/(Ti4++Nb5++Ta5++W6+))为0.7~1,阳离子比((B3++Si4+)/(Ti4++Nb5++Ta5++W6+))为0.5~4,阳离子比((La3++Gd3++Y3+)/(Ti4++Nb5++Ta5++W6+))为0.2~3,Zn2+/(Zn2++Mg2++Ca2++Sr2++Ba2+)为0.8~1,折射率nd大于或等于1.89,阿贝数vd为27~37。
申请公布号 CN102030473A 申请公布日期 2011.04.27
申请号 CN201010501528.9 申请日期 2010.09.29
申请人 HOYA株式会社 发明人 根岸智明;藤原康裕
分类号 C03C3/068(2006.01)I;C03C3/253(2006.01)I;C03C3/15(2006.01)I;C03C3/155(2006.01)I;G02B1/00(2006.01)I 主分类号 C03C3/068(2006.01)I
代理机构 北京东方亿思知识产权代理有限责任公司 11258 代理人 柳春雷;南霆
主权项 一种光学玻璃,以阳离子%表示,包含:20~50%的B3+、0~10%的Si4+、5~35%的La3+、0~10%的Gd3+、0~10%的Y3+、0~10%的Yb3+、0~4%的Ti4+、1~30%的Nb5+、0.5~15%的Ta5+、0~5%的W6+、0~10%的Zr4+、11~40%的Zn2+、0~10%的Mg2+、0~10%的Ca2+、0~10%的Sr2+、0~10%的Ba2+、0~10%的Li+、0~10%的Na+、0~10%的K+、0~10%的Te4+、0~10%的Ge4+、0~10%的Bi3+、0~10%的Al3+,并且B3+和Si4+的总含量(B3++Si4+)为20~50%,La3+、Gd3+以及Y3+的总含量(La3++Gd3++Y3+)为5~35%,阳离子比((B3++Si4+)/(La3++Gd3++Y3+))为1~5,Ti4+、Nb5+、Ta5+、以及W6+的总含量(Ti4++Nb5++Ta5++W6+)为10~35%,阳离子比((Nb5++Ta5+)/(Ti4++Nb5++Ta5++W6+))为0.7~1,阳离子比((B3++Si4+)/(Ti4++Nb5++Ta5++W6+))为0.5~4,阳离子比((La3++Gd3++Y3+)/(Ti4++Nb5++Ta5++W6+))为0.2~3,Zn2+的含量相对于Zn2+、Mg2+、Ca2+、Sr2+、以及Ba2+的总含量的阳离子比(Zn2+/(Zn2++Mg2++Ca2++Sr2++Ba2+))为0.8~1,折射率nd大于或等于1.89,阿贝数vd为27~37。
地址 日本东京都