| 发明名称 | 光刻设备和操作光刻设备的方法 | ||
| 摘要 | 本发明公开了一种光刻设备和操作光刻设备的方法以及一种清洁液体供给系统。清洁液体供给系统可以供给乳化的清洁液体，以清洁浸没式光刻设备。 | ||
| 申请公布号 | CN102033435A | 申请公布日期 | 2011.04.27 |
| 申请号 | CN201010501461.9 | 申请日期 | 2010.09.30 |
| 申请人 | ASML荷兰有限公司 | 发明人 | K·T·霍尔柯德;R·F·德格拉夫;H·詹森;M·H·A·里德尔斯;A·J·范德奈特;P·J·克拉莫尔;A·昆吉皮尔;A·H·J·A·马坦斯;S·范德格拉夫;A·V·帕迪瑞 |
| 分类号 | G03F7/20(2006.01)I | 主分类号 | G03F7/20(2006.01)I |
| 代理机构 | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人 | 王波波 |
| 主权项 | 一种流体供给设备，所述流体供给设备被配置以将乳化的清洁流体供给至浸没式光刻设备，所述流体供给设备包括混合器和传感器系统以及控制器，所述混合器被配置成将来自添加剂流体供给装置的添加剂流体和来自浸没液体供给装置的浸没液体混合，以形成所述乳化的清洁流体，所述传感器系统被配置以感测所述乳化的清洁流体的物理性质，所述控制器被连接至所述传感器和所述混合器，所述控制器被配置以控制：所述添加剂流体从所述添加剂流体供给装置至所述混合器的供给；和所述乳化的清洁流体的物理性质。 | ||
| 地址 | 荷兰维德霍温 | ||