| 发明名称 | 用于半导体器件用基板的清洁液 | ||
| 摘要 | 本发明的清洁液包含钠离子、钾离子、铁离子、由通式(1)表示的硫酸酯的铵盐、和水，其中钠离子、钾离子和铁离子的各自的含量均为1ppb至500ppb：ROSO3-(X)+ (1)，其中R是碳数为8-22的烷基或碳数为8-22的烯基，且(X)+是铵离子。 | ||
| 申请公布号 | CN102037542A | 申请公布日期 | 2011.04.27 |
| 申请号 | CN200980118553.4 | 申请日期 | 2009.05.18 |
| 申请人 | 花王株式会社 | 发明人 | 石桥洋一 |
| 分类号 | H01L21/02(2006.01)I;C11D11/00(2006.01)I;C07C303/44(2006.01)I | 主分类号 | H01L21/02(2006.01)I |
| 代理机构 | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人 | 过晓东;谭邦会 |
| 主权项 | 一种用于半导体器件用基板的清洁液，其包含钠离子、钾离子、铁离子、由通式(1)表示的硫酸酯的铵盐、和水，其中钠离子、钾离子和铁离子的各自含量均为1ppb至500ppb；ROSO3‑(X)+ (1)其中R是碳数为8‑22的烷基或碳数为8‑22的烯基，且(X)+是铵离子。 | ||
| 地址 | 日本东京 | ||