| 主权项 |
一种清洗设备，用以清洗至少一物件，该清洗设备包含：一机体，界定一容置空间，该机体包含一轨道，且该轨道设置于该容置空间；一清洁装置，适可且沿该轨道位移地套设于该轨道，该清洁装置包含至少一清洁元件；一第一载台，设置于该容置空间，该第一载台包含一基板，且该基板承载该至少一物件；以及一第二载台，邻设于该第一载台旁；其中，该清洁装置藉由该轨道位移至该基板上方，使该至少一清洁元件与该至少一物件对位。如申请专利范围第1项所述之清洗设备，其中该至少一清洁元件更包含一轴向，且该轴向沿垂直方向设置。如申请专利范围第2项所述之清洗设备，其中该至少一清洁元件更包含一弹性元件，且该弹性元件套设于该至少一清洁元件。如申请专利范围第3项所述之清洗设备，其中该清洁装置更包含至少一传动带，套接于该至少一清洁元件。如申请专利范围第4项所述之清洗设备，其中该清洁装置更包含一第一驱动装置，该至少一传动带套接该第一驱动装置。如申请专利范围第5项所述之清洗设备，其中该第一载台更包含一第一心轴件，该第一心轴件与该机体连接且沿垂直方向设置。如申请专利范围第6项所述之清洗设备，其中该第一载台更包含一第二驱动装置，该第二驱动装置适以驱动该第一载台沿该第一心轴件位移。如申请专利范围第7项所述之清洗设备，其中该第二载台包含一托盘，容置有清洁液。如申请专利范围第8项所述之清洗设备，其中该第二载台更包含一第二心轴件，该第二心轴件与该机体连接且沿垂直方向设置。如申请专利范围第9项所述之清洗设备，其中该第二载台更包含一第三驱动装置，该第三驱动装置适以驱动该第二载台沿该第二心轴件位移。如申请专利范围第10项所述之清洗设备，其中该第二载台更包含一清洁液储存槽及一流管，且该清洁液储存槽、该流管及该托盘彼此流体连通。如申请专利范围第11项所述之清洗设备，其中该清洁液储存槽与该机体连接且容置于该容置空间。如申请专利范围第1项所述之清洗设备，其中该机体更包含一风扇，设置于该机体之周缘。如申请专利范围第1项所述之清洗设备，其中该至少一物件为四物件，该至少一清洁元件为四清洁元件。如申请专利范围第13项所述之清洗设备，其中该四物件为四电路板。 |
