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Ein Projektionsobjektiv für eine mikrolithographische EUV-Projektionsbelichtungsanlage umfasst einen ersten Spiegel (S1, S3) und einen zweiten Spiegel (S2, S4 bis S6), wobei der erste und der zweite Spiegel jeweils ein Spiegelsubstrat (46; 146) und eine davon getragene reflektierende Beschichtung (50) aufweisen. Erfindungsgemäß sind der erste Spiegel und der zweite Spiegel derart ausgebildet, dass das Spiegelsubstrat (46; 146) des ersten Spiegels (S1, S3) bei ansonsten gleicher Bestrahlung mit EUV-Licht weniger unter dem Einfluss des EUV-Lichts kompaktiert als das Spiegelsubstrat (46) des zweiten Spiegels (S2, S4 bis S6). |
