基于倾斜旋转基片与模版光刻制备微针阵列的方法

摘要

本发明涉及的是一种微细加工技术领域的基于倾斜旋转基片与模版光刻制备微针阵列的方法。本发明采用倾斜旋转基片与模版曝光的方法首先获得SU-8三维微结构，利用PDMS良好的图形转移能力以及脱模能力将PDMS填充到SU-8三维微结构的模具中，脱模后得到PDMS圆锥体微针阵列；或者在SU-8三维微结构上溅射沉积金属，以此金属为种子层电铸得到圆锥体金属微针阵列。本发明倾斜角度可调，不仅可以降低设备要求成本，而且得到标准的各个方向力学特性均衡的三维微针结构。

主权项

一种基于倾斜旋转基片与模版光刻制备微针阵列的方法，其特征在于，包括如下步骤：第一步，在经清洗烘干玻璃基片上旋涂SU‑8100，然后前烘固化，并切平，掩模版与基片紧密接触后置于固定在电机的转轴上的基板上，倾斜基片和掩模版，倾斜角度在0到90度间调整，用紫外光曝光，在曝光时旋转倾斜基片和掩模版；第二步，经中烘、显影后得到SU‑8圆锥形凹锥的SU‑8三维微结构；第三步，在得到的SU‑8三维微结构基础上，制备PDMS圆锥体微针阵列或者圆锥体金属微针阵列；所述制备PDMS圆锥体微针阵列，具体为：把PDMS填充在SU‑8圆锥形凹锥结构上，填充完后将含有PDMS的SU‑8圆锥形凹锥结构放在真空箱中除气泡，气泡抽除干净后，将其放在烘箱中固化，割除边缘的PDMS后放置于乙醇中浸泡，脱模后得到PDMS圆锥体微针阵列；所述制备圆锥体金属微针阵列，具体为：在SU‑8圆锥形凹锥结构上溅射一层Cr/Cu作为金属种子层，在种子层上电铸Ni制成金属模具，在发烟硫酸浸泡去除SU‑8胶后得到圆锥体金属微针阵列；所述方法制备得到的微针的顶角是第一步中所述倾斜角度的两倍。