发明名称 |
电化学电镀设备和方法 |
摘要 |
本发明公开了一种电化学电镀设备和方法,其中电镀设备包括:机械手臂,用于晶片的运输;电镀槽,用于对晶片进行电镀;清洗槽,用于对电镀后的晶片进行清洗;控制装置,用于对机械手臂、电镀槽及清洗槽进行控制,且当对晶片进行电镀的电镀时间小于清洗时间时,控制装置用于对晶片在电镀槽内的停留时间进行调整,从而延长晶片在电镀槽内的停留时间。本发明通过对电镀设备和方法进行改进,提高了电镀设备的利用率。 |
申请公布号 |
CN102021625A |
申请公布日期 |
2011.04.20 |
申请号 |
CN200910195634.6 |
申请日期 |
2009.09.11 |
申请人 |
中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 |
发明人 |
孙日辉;倪百兵;蒋剑勇;张继伟;王鹏 |
分类号 |
C25D7/12(2006.01)I;C25D17/00(2006.01)I;C25D17/28(2006.01)I;C25D21/12(2006.01)I;H01L21/288(2006.01)I;H01L21/445(2006.01)I |
主分类号 |
C25D7/12(2006.01)I |
代理机构 |
北京集佳知识产权代理有限公司 11227 |
代理人 |
李丽 |
主权项 |
一种电化学电镀设备,包括:机械手臂,用于晶片的运输;电镀槽,用于对晶片进行电镀;清洗槽,用于对电镀后的晶片进行清洗;其特征在于,还包括控制装置,用于对机械手臂、电镀槽及清洗槽进行控制,且当对晶片进行电镀的电镀时间小于清洗时间时,控制装置用于对晶片在电镀槽内的停留时间进行调整,从而延长晶片在电镀槽内的停留时间。 |
地址 |
201203 上海市浦东新区张江路18号 |