高解析度负型光阻剂

摘要

本发明的负型光阻剂为一种新的光阻组成，其主要成分为：高分子树脂(Resin)、颜料(Pigment)、感光起始剂(Photo initiator)、单体(Monomer)、溶剂(Solvent)，以及添加剂(Additives)；其中，高分子树脂(Resin)的分子量(Mw)最好低于40,000，而且使用水溶性单体增加显影对比，俾在光阻图像(Pattern)成像后，能够有效缩短光阻的图像斜边(Taper)长度，使光阻层图像的线宽(CD)值愈接近光罩图像大小，进而获致较佳的解析度。

主权项

一种高解析度负型光阻剂，至少包含：高分子树脂，6％至50％重量百分比；颜料，2％至15％重量百分比；感光起始剂，1％至10％重量百分比；单体，2％至10％重量百分比；溶剂，42％至88％重量百分比；添加剂，1％至14％重量百分比；其中，该高分子树脂为重量平均分子量低于40,000；且该高分子树脂的分子量分布范围小于3.5；以及其中，所述高分子树脂为甲基丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸为主及其它少量单体组成物所组成的压克力树脂。