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经营范围
发明名称
Method of manufacturing a tantalum sputtering target
摘要
申请公布号
EP1609881(B1)
申请公布日期
2011.04.20
申请号
EP20040712763
申请日期
2004.02.19
申请人
NIPPON MINING & METALS CO., LTD.
发明人
ODA, KUNIHIRO;FUKUSHIMA, ATSUSHI
分类号
C23C14/34;C22F1/18
主分类号
C23C14/34
代理机构
代理人
主权项
地址
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