发明名称 |
一种合成石墨烯薄膜材料的方法 |
摘要 |
本发明公开了一种合成石墨烯薄膜材料的方法,该方法通过化学气相沉积的方法,采用氢气加甲烷的混合气氛,在铜基底上生长石墨烯薄膜;然后将生长了石墨烯薄膜的铜基底平放在表面被氧化了硅基底上,放入硝酸铁溶液中,将铜基底溶掉,此时石墨烯薄膜将沉在硅基底上;接下来将溶液稀释,再将沉有石墨烯的硅基底从溶液中取出用真空干燥箱烘干;再将沉有石墨烯的硅基底超声清洗后,放入通氩气保护的退货炉中退火即可制的高质量的石墨烯样品。本发明简化了原来制备石墨烯薄膜所需要的复杂的步骤,避免了化学方法所需要的剧毒试剂,提高了石墨烯薄膜的生产效率,制备的石墨烯薄膜经拉曼光谱仪测量证明性能良好,具有很好的可重复性。 |
申请公布号 |
CN102020263A |
申请公布日期 |
2011.04.20 |
申请号 |
CN201010218410.5 |
申请日期 |
2010.07.02 |
申请人 |
浙江大学 |
发明人 |
蒋建中;于文彦;张鑫;张凌泓 |
分类号 |
C01B31/02(2006.01)I;C23C16/26(2006.01)I |
主分类号 |
C01B31/02(2006.01)I |
代理机构 |
杭州求是专利事务所有限公司 33200 |
代理人 |
周烽 |
主权项 |
一种制备石墨烯薄膜的方法,其特征在于,该方法的步骤如下:(1)通过化学气相沉积的方法,采用氢气加甲烷的混合气氛,在铜基底上生长石墨烯薄膜。(2)将生长了石墨烯薄膜的铜基底平放在表面被氧化了硅基底上,放入硝酸铁溶液中,将铜基底溶掉,此时石墨烯薄膜将沉在硅基底上。(3)将溶液稀释,再将沉有石墨烯的硅基底从溶液中取出用真空干燥箱烘干。(4)将沉有石墨烯的硅基底超声清洗后,放入通氩气保护的退货炉中退火,然后随炉冷却至室温后将样品取出即可制得高质量的石墨烯薄膜样品。 |
地址 |
310027 浙江省杭州市西湖区浙大路38号 |