发明名称 |
用于光学记录介质的制造方法和光学记录介质 |
摘要 |
本发明涉及一种用于光学记录介质的制造方法和光学记录介质,所述光学记录介质包括衬底、信息记录层、光透射层,所述制造方法包括:模制衬底;在衬底上形成信息记录层,使得信息记录层具有多层结构,所述多层结构包括使用相同成分的靶材在第一沉积条件下所溅射的层和在第二沉积条件下所溅射的层;和在信息记录层上形成光透射层。 |
申请公布号 |
CN102024477A |
申请公布日期 |
2011.04.20 |
申请号 |
CN201010281754.0 |
申请日期 |
2010.09.13 |
申请人 |
索尼公司 |
发明人 |
三木刚 |
分类号 |
G11B7/26(2006.01)I;G11B7/252(2006.01)I |
主分类号 |
G11B7/26(2006.01)I |
代理机构 |
北京东方亿思知识产权代理有限责任公司 11258 |
代理人 |
王安武;南霆 |
主权项 |
一种用于光学记录介质的制造方法,所述光学记录介质包括衬底、信息记录层和光透射层,所述制造方法包括如下步骤:模制所述衬底;在所述衬底上形成所述信息记录层,使得所述信息记录层具有多层结构,所述多层结构包括使用相同成分的靶材在第一沉积条件下所溅射的层和在第二沉积条件下所溅射的层;并且在所述信息记录层上形成所述光透射层。 |
地址 |
日本东京都 |