发明名称 | 磁记录介质的制造方法和制造装置 | ||
摘要 | 本发明提供使用同一个在线式装置进行介质的制造,由此能够减少处理造成的污染、提高生产率的磁记录介质的制造方法。该磁记录介质的制造方法,其特征在于,依次地具有:将至少层叠有记录磁性层和用于将所述记录磁性层图案化的掩模层的非磁性基板装载于运载器的装载工序;通过对所述记录磁性层之中的没有被所述掩模层覆盖的部位进行反应性等离子处理或离子照射处理而将磁特性改性,形成由残存的磁性体构成的磁记录图案的改性工序;除去所述掩模层的除去工序;在所述记录磁性层上形成保护膜的保护膜形成工序;以及,从所述运载器卸下所述非磁性基板的卸下工序。将所述改性工序、所述除去工序或所述保护膜形成工序中的任一个以上的工序分成多个室而连续处理。 | ||
申请公布号 | CN102027539A | 申请公布日期 | 2011.04.20 |
申请号 | CN200980117004.5 | 申请日期 | 2009.05.12 |
申请人 | 昭和电工株式会社 | 发明人 | 福島正人;坂脇彰;茂智雄 |
分类号 | G11B5/851(2006.01)I | 主分类号 | G11B5/851(2006.01)I |
代理机构 | 北京市中咨律师事务所 11247 | 代理人 | 段承恩;陈海红 |
主权项 | 一种磁记录介质的制造方法,是将装载于运载器的多片非磁性基板依次运送到相互接续的多个室内,制造具有磁记录图案的磁记录介质的方法,其特征在于,依次地具有:装载工序,将至少层叠有记录磁性层和用于将所述记录磁性层图案化的掩模层的非磁性基板装载于运载器;改性工序,通过对所述记录磁性层之中的没有被所述掩模层覆盖的部位进行反应性等离子处理或离子照射处理而将磁特性改性,形成由残存的磁性体构成的磁记录图案;除去所述掩模层的除去工序;在所述记录磁性层上形成保护膜的保护膜形成工序;以及,从所述运载器卸下所述非磁性基板的卸下工序,将所述改性工序、所述除去工序或所述保护膜形成工序中的任一个以上的工序分成多个室而连续处理。 | ||
地址 | 日本东京都 |