发明名称 |
双矩阵组合公钥的生成方法 |
摘要 |
本发明属于信息安全技术领域,在基于标识的组合公钥CPK体制基础上,公开了一种抗共谋攻击的双矩阵组合公钥的生成方法,可提高公钥体制的安全性:密钥管理中心定义生成公钥组合矩阵I和公钥组合矩阵II,公钥组合矩阵I产生标识密钥,公钥组合矩阵II产生分割密钥,标识密钥和分割密钥复合产生组合密钥,标识密钥和分割密钥互为加密,隐蔽了私钥之间存在的线性组合关系,消除了共谋可能性,安全性得到了证明。双矩阵构建的组合公钥的主密钥是两个矩阵,比靠一个主密钥保护系统安全的其他系统,更具有抗量子计算攻击的能力。 |
申请公布号 |
CN102025491A |
申请公布日期 |
2011.04.20 |
申请号 |
CN201010591035.9 |
申请日期 |
2010.12.15 |
申请人 |
北京联合智华微电子科技有限公司 |
发明人 |
南相浩 |
分类号 |
H04L9/30(2006.01)I;H04L9/08(2006.01)I |
主分类号 |
H04L9/30(2006.01)I |
代理机构 |
北京同恒源知识产权代理有限公司 11275 |
代理人 |
赵荣之;杨明 |
主权项 |
双矩阵组合公钥的生成方法,其特征在于:包括如下步骤:1)密钥管理中心定义生成公钥组合矩阵I和公钥组合矩阵II;2)密钥管理中心通过实体标识,由公钥组合矩阵I产生标识密钥对,由公钥组合矩阵II产生分割密钥对;3)密钥管理中心将标识私钥和分割私钥复合组成组合私钥;4)密钥管理中心将组合私钥分发给用户;5)电子签名依赖方用标识公钥和分割公钥复合生成组合公钥,进行签名验证。 |
地址 |
100043 北京市石景山区石景山路40号信安大厦9层 |