| 发明名称 | 用于光刻术的检查设备 | ||
| 摘要 | 本发明涉及检测位于图案中的目标。本发明通过从所述周围图案滤出傅里叶变换而在光瞳平面中操作。具体地，所述方法包括在反射的辐射数据上进行傅里叶变换以形成傅里叶变换数据；移除傅里叶变换数据中对应于所述目标的部分，以形成简化的傅里叶变换数据；对被移除的所述简化的傅里叶变换数据的所述部分进行插值，以形成产品傅里叶变换数据；和从所述傅里叶变换数据减去所述产品傅里叶变换数据。 | ||
| 申请公布号 | CN102027416A | 申请公布日期 | 2011.04.20 |
| 申请号 | CN200980117044.X | 申请日期 | 2009.04.27 |
| 申请人 | ASML荷兰有限公司 | 发明人 | M·A·范德柯克霍夫 |
| 分类号 | G03F7/20(2006.01)I;G01N21/21(2006.01)I;G01N21/27(2006.01)I | 主分类号 | G03F7/20(2006.01)I |
| 代理机构 | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人 | 王波波 |
| 主权项 | 一种测量衬底上的目标的方法，所述方法包括步骤：用辐射照射衬底；检测被所述衬底反射的辐射和基于所述检测的辐射形成一组傅里叶变换数据；移除傅里叶变换数据中对应于所述目标的部分，以形成简化的傅里叶变换数据；对被移除的所述简化的傅里叶变换数据的所述部分进行插值，以形成产品傅里叶变换数据；和从所述傅里叶变换数据中减去所述产品傅里叶变换数据，以形成目标数据。 | ||
| 地址 | 荷兰维德霍温 | ||