基板曝光装置及照明装置

摘要

本发明提供即使在使二维光空间调制器的光调制面的横Hx和纵Hy(其中，纵向为曝光基板的移动方向)之比Hx/Hy为例如1.5以上的情况下也可进行品质优良的曝光且可提高作业速度的照明装置及曝光装置。使将来自积分器(13)的出射光导向二维光空间调制器(21)的第二光学系统(15)的x方向的焦距(fx)与y方向的焦距(fy)为不同的值，例如，使fx/fy为1.6。这样，使棒透镜131的横纵比dx∶dy为接近1的1.6∶1，使积分器(13)的数量横纵相同，且可使Hx/Hy的值为2.5。此外，在实用上，可使二维光空间调制器的照射区域的横纵比Hx/Hy的值为3.5以上。

主权项

一种基板曝光装置，包括：曝光光源、将从该曝光光源出射的光形成为指向性高的光束的光束形成构件、将上述指向性高的光束导向积分器的第一光学系统、积分器、将该积分器出射光照射到二维光空间调制器的第二光学系统、二维光空间调制器、将经该二维光空间调制器反射或透射的光由投影光学系统在曝光基板上投影曝光的投影光学系统和装载曝光基板并在至少一个方向上扫描的台部，其特征在于，上述第二光学系统是与光轴正交的x y两个方向的焦距不同的光学系统，并且在上述x y两个方向的焦距中，x方向的焦距fx比y方向的焦距fy长；以及所述积分器包括在x y方向上排列的棒透镜，所述棒透镜在x方向的尺寸dx比y方向的尺寸dy长。