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Die Erfindung betrifft eine optische Anordnung in einem optischen System, insbesondere in einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage, mit wenigstens einem wärmeemittierenden Subsystem (110-810), welches im Betrieb des optischen Systems Wärme abgibt, einer ersten Wärmeabschirmung (120-820), welche so angeordnet ist, dass sie die von dem wärmeemittierenden Subsystem (110-810) abgegebene Wärme wenigstens zum Teil abfängt, einer ersten Kühlvorrichtung (130-830), welche mit der ersten Wärmeabschirmung in mechanischem Kontakt steht und dazu ausgelegt ist, Wärme von der ersten Wärmeabschirmung abzuführen, und einer zweiten Wärmeabschirmung (140-840), welche von der ersten Wärmeabschirmung (120-820) abgegebene Wärme wenigstens zum Teil abfängt, wobei diese zweite Wärmeabschirmung (140-840) ebenfalls mit einer Kühlvorrichtung in mechanischem Kontakt steht, welche Wärme von der zweiten Wärmeabschirmung (140-840) abführt.
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